[发明专利]利用多孔硅弹道电子发射的平面光源无效
申请号: | 200910023966.6 | 申请日: | 2009-09-30 |
公开(公告)号: | CN101661865A | 公开(公告)日: | 2010-03-03 |
发明(设计)人: | 胡文波;张鹏;郑宇 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | H01J63/06 | 分类号: | H01J63/06;H01J61/04 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 | 代理人: | 陆万寿 |
地址: | 710049*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 多孔 弹道 电子 发射 平面 光源 | ||
1.一种利用多孔硅弹道电子发射的平面光源,包括由玻璃材料制成的相隔距离的前基板(1)和后基板(2),在前、后基板(1、2)的相对的两个表面上均涂敷有荧光粉(6、7),前、后基板(1、2)的四周有封接框以密封前、后基板(1、2)之间的空间,其特征在于,前、后基板(1、2)之间设置有相互平行的若干支撑条(13),在每个支撑条(13)的每个侧面及与支撑条(13)平行的两条封接边(12)的内侧面上依次设置底电极(8)、多孔硅膜(9)和顶电极(10),或设置有阳极(11),底电极(8)、多孔硅膜(9)和顶电极(10)三者构成了产生弹道电子发射的多孔硅阴极,相邻支撑条(13)的相对的两个侧面上分别为多孔硅阴极和阳极(11),相邻的支撑条(13)和封接边(12)的相对的两个侧面上分别为多孔硅阴极和阳极(11)。
2.如权利要求1所述的平面光源,其特征在于,其中在所述支撑条(13)的一个侧面上制备多孔硅阴极,在另一个侧面上设置阳极(11),相邻支撑条(13)的相对的两个侧面上分别为多孔硅阴极和阳极(11),在与支撑条(13)平行的两条封接边(12)的内侧面上设置多孔硅阴极或阳极(11),相邻的支撑条(13)和封接边(12)的相对的两个侧面上分别为多孔硅阴极和阳极(11),相邻的支撑条(13)之间及相邻的支撑条(13)和封接边(12)之间按照3-25mm的距离等间距设置。
3.如权利要求1所述的平面光源,其特征在于,其中所述支撑条(13)中的一部分的两个侧面上均制备多孔硅阴极,另一部分支撑条(13)的两个侧面上均制备阳极(11),这两种支撑条(13)交替放置,以使相邻支撑条(13)的相对的两个侧面上分别为多孔硅阴极和阳极(11),在与支撑条(13)平行的两条封接边(12)的侧面上制备多孔硅阴极或阳极(11),相邻的支撑条(13)和封接边(12)的相对的两个侧面上分别为多孔硅阴极和阳极(11),相邻的支撑条(13)之间及相邻的支撑条(13)和封接边(12)之间按照3-25mm的距离等间距设置。
4.如权利要求1所述的平面光源,其特征在于,在其中所述后基板的荧光粉层(7)下设有反射层(14)。
5.根据权利要求1所述的平面光源,其特征在于,其中所述底电极(8)选用Al、W、Cr、Ni或Mo材料,顶电极(10)选用Au或Pt材料,并采用磁控溅射或电子束真空蒸发镀膜工艺制备,顶电极的膜厚为5-20nm。
6.根据权利要求1所述的平面光源,其特征在于,其中所述阳极(11)采用氧化铟锡(ITO)、Ag、Al、Cr或Ni材料,并采用磁控溅射或电子束真空蒸发镀膜工艺制备,或者采用丝网印刷Ag浆料结合烧结工艺制作。
7.根据权利要求1所述的平面光源,其特征在于,其中所述荧光粉层(6、7)采用印刷法、旋涂法或喷涂法制作,其中前基板的荧光粉层(6)厚度为6-20μm,后基板上的荧光粉层(7)厚度为50-200μm,平面光源内部的气体采用纯氙气Xe或纯氪气Kr,或者是含Xe或含Kr的惰性混合气体。
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