[发明专利]溅镀用方形TiW靶材表面处理工艺无效
| 申请号： | 200910025058.0 | 申请日： | 2009-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN101492808A | 公开（公告）日： | 2009-07-29 |
| 发明（设计）人： | 林尚涛 | 申请（专利权）人： | 颀中科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B24C1/04;B24C9/00;B08B3/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215123江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅镀用 方形 tiw 表面 处理 工艺 | ||
1.一种溅镀用方形TiW靶材表面处理工艺，其特征在于其包括如下步骤：
1)遮蔽：确认靶材容易产生再沉积的区域的位置，将此区域外的其他靶材位置进行遮蔽；
2)一次喷砂：用粗砂对再沉积区域内的TiW微粒进行轰击，以使其剥落；
3)二次喷砂：用细砂对再沉积区域内的TiW靶材表面进行轰击，并测量再沉积区域内的粗糙度Ra的值，直至再沉积区域内的粗糙度Ra的值达到5-7um；
4)去除遮蔽：将靶材上的遮蔽物去除；
5)清洗：先用高压水进行清洗，然后用超声波清洗，再然后用超纯水润洗，最后用气枪将TiW靶材表面水分去除；
6)干燥：将TiW靶材进行无尘干燥。
2如权利要求1所述的溅镀用方形TiW靶材表面处理工艺，其特征在于：步骤2)中需喷砂次数为9～10次，时间为40～60秒，压力为3.5Kgf/cm2。
3如权利要求1所述的溅镀用方形TiW靶材表面处理工艺，其特征在于：步骤3)中需喷砂次数为9～10次，时间为40～60秒，压力为3.5Kgf/cm2。
4如权利要求1所述的溅镀用方形TiW靶材表面处理工艺，其特征在于：步骤5)中超声波清洗的时间为3-5分钟。
5如权利要求1所述的溅镀用方形TiW靶材表面处理工艺，其特征在于：步骤5)中用超纯水润洗的时间为20-30分钟。
6如权利要求1所述的溅镀用方形TiW靶材表面处理工艺，其特征在于：步骤6)中环境温度为80℃，干燥时间为2.5小时以上。
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