[发明专利]基于二维光子晶体多模干涉效应的波分复用器/解复用器无效
申请号: | 200910026650.2 | 申请日: | 2009-05-08 |
公开(公告)号: | CN101546013A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 张家雨;张玲玲;王琼;崔一平 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | G02B6/122 | 分类号: | G02B6/122 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人: | 叶连生 |
地址: | 211109江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 二维 光子 晶体 干涉 效应 波分复用器 解复用器 | ||
1.一种基于二维光子晶体多模干涉效应的波分复用器/解复用器,其特征在于二维光子晶体主体由二维周期排列的介质柱阵列(5)组成;单模波导和多模波导分别通过在二维光子晶体中除去一排和多排介质柱获得;波分复用器/解复用器主体为用作多模干涉耦合器的多模波导(2),在多模波导(2)一端连有用作输入或输出波导的第一单模波导(1),另一端连有用作输出或输入波导的第二单模波导(3)和第三单模波导(4)。
2.根据权利要求1所述的基于二维光子晶体多模干涉效应的波分复用器/解复用器,其特征在于二维周期排列是指阵列中任何相邻的三个介质柱的中心的连线构成等边三角形的三角晶格。
3.根据权利要求书2所述的基于二维光子晶体多模干涉效应的波分复用器/解复用器,其特征在于介质柱阵列(5)的材料为硅或磷化铟或砷化钾。
4.根据权利要求书1所述的基于二维光子晶体多模干涉效应的波分复用器/解复用器,其特征在于多模波导(2)的长度同时由两个频率处的成像条件决定,即多模波导(2)的长度L,使得当两个频率处的光都从第一单模波导(1)输入时,一个频率处的光在第二单模波导(3)处成镜像,另一频率处的光在第四单模波导(4)处成原像,即实现波分解复用器功能。
5.根据权利要求书4所述的基于二维光子晶体多模干涉效应的波分复用器/解复用器,其特征在于将满足成镜像条件的频率的光从第二单模波导(3)输入,将满足成原像条件的频率的光从第三单模波导(4)输入,则两个频率的光都将从第一单模波导(1)输出,即实现波分复用器功能。
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