[发明专利]一种用于溅射镀膜的阴极

权利要求书

1.一种用于溅射镀膜的阴极，包括靶材、内部设有腔体的阴极组件、磁铁，所述靶材为平面靶材，所述磁铁位于阴极组件的腔体内，所述磁铁的一个磁极朝向靶材方向，另一个磁极背向靶材方向设置，其特征在于：磁铁朝向靶材的磁极端面为内凹的曲面、使所述靶材位于由磁铁产生的磁场中，磁场的方向垂直于靶材表面。

2.根据权利要求1所述的用于溅射镀膜的阴极，其特征在于：所用靶材为圆形时，该阴极外形为圆柱体形，所述磁铁为圆柱体；当磁铁的直径等于靶材的直径时，朝向靶材的磁极端面为内凹曲面，曲率半径为靶材直径的0.6倍～3倍；磁铁直径大于靶材的直径时，磁极端面内凹曲面的曲率半径大于靶材直径的0.6倍。

3.根据权利要求1所述的用于溅射镀膜的阴极，其特征在于：所用靶材为矩形靶时，该阴极外形为长方体形，所述磁铁为扁长方体；当磁铁的宽度等于靶材的宽度时，朝向靶材的磁极端面为内凹柱面，曲率半径为靶材宽度的0.6倍～3倍；磁铁宽度大于靶材的宽度时，磁极端面内凹柱面的曲率半径大于靶材宽度的0.6倍。