[发明专利]一种金属配合物的制备方法无效

专利信息
申请号: 200910029018.3 申请日: 2009-01-09
公开(公告)号: CN101498005A 公开(公告)日: 2009-08-05
发明(设计)人: 袁亚仙;姚建林 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: C25B3/12 分类号: C25B3/12;C07F1/08;C07D233/58
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人: 陶海锋
地址: 215123江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 金属 配合 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种制备金属配合物的方法,具体涉及一种以离子液体为电解液制备金属配合物的方法。

背景技术

制备金属配合物有各种各样的方法,其中电化学合成方法由于其步骤简单,操作条件温和,电极反应的方向易控制,生成的配合物中金属通常显低价等优点在合成金属配合物方面得到了广泛的应用。

大多数金属配合物的电解合成都是在金属电极上进行的,一般来说,它们可以看成是通过氧化还原得到金属配合物的反应。电化学合成金属配合物大多使用“牺牲”阳极法(或电化学阳极溶解法),金属阳极氧化而溶解,同时配体(HL)在阴极上被还原放出氢气,配位反应在溶液中进行,如:D.G.Tuck和Sousa等人以铟和一些过渡金属为牺牲阳极,用该法合成了一系列的金属配合物(参见:T AAnnan,J Gu,Z Tian,D G Tuck,J.Chem.Soc.Dalton Trans.,1992,3061.)。

大部分的电化学合成都选择了非水溶剂(如乙腈、丙酮、甲苯、二甲亚砜、甲醇、四氢呋喃等)(参见:A M Vecchio-Sadus,J.Appl.Electrochem.,1993,23,401~416.)作为反应介质,而且在反应过程中为了提高导电率,还或多或少地添加了部分支持电解质(NaOAc、(n-Bu)4NClO4、LiClO4、Et4NClO4等),如:Labisbal等利用Cu、Ni为阳极,四甲基高氯酸铵为支持电解质,使用Tuck等所描述的电解槽,在含配体席夫碱H2L(它是由水杨醛和邻氨基苯酚制得)的乙腈溶液中进行电解,合成了[CuL]、[NiL]配合物(参见:E Labisbal,J A Garcia-Vazquez,J Romeroet al.Polyhedron,1995,14(5):663~670.);

Garcia-Vazquez等利用Co、Ni、Cu、Zn、Cd为阳极,在含配体席夫碱((2-甲苯磺酰氨基(2-吡啶基)苯胺即HL)的乙腈溶液中,以四甲基高氯酸铵为支持电解质,电解合成得到[ML2]配合物(参见:J A Garcia-Vazquez,J Romero,L DMaria et al.Polyhedron,1997,17(9):1547~1552.);

Garnovskii等利用Co、Ni、Cu、Zn为阳极,Pt为阴极,四乙基高氯酸铵为支持电解质,根据标准的电化学过程,在含有配体席夫碱((2-N-甲苯磺酰氨基(2-甲苯磺酰氨苯亚甲基))苯胺即H2L)的甲醇溶液中进行电解得到席夫碱三齿配合物[MLL′](M=Co、Ni、Zn,L′=2-氨基吡啶;M=Cu,L′=CH3OH)配合物,通过X射线单晶衍射确定了Zn、Ni配合物的晶体结构(参见:D A Garnovskii,M FC Guedesda Silva,M N Kopylovich et al.Polyhedron,2003,22(10):1335~1340.);

Shiroki等用Co作阳极,在含配体二苯基乙炔和RCpH(R=H,Et,Pr)的乙腈溶液中电解合成了少量的环戊二烯基四苯基-丁二烯的Co(I)配合物,此反应有水时就会形成一个无环四电子给体,即η5-环戊二烯钴-η4-四苯基丁二烯(参见:V L Shirokii,V A Knizhnikov,A V Mosin et al.Metalloorg.Khim.,1991,(4):1059~1064.);

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