[发明专利]基于纳米结构的全光谱广角聚光器的制作方法

权利要求书

1.基于纳米结构的全光谱广角聚光器的制作方法，其特征在于：包括以下步骤——

①首先加工聚光器；

②在聚光器的两面沉积金属膜；

③将沉积金属膜的聚光器放入退火炉中，热退火形成金属球；

④在金属球的掩膜下，经干法刻蚀，使聚光器两面形成亚波长结构；

⑤采用金属腐蚀液湿法刻蚀去除金属球，获得亚波长结构的高效全光谱广角透射的聚光器。

2.根据权利要求1所述的基于纳米结构的全光谱广角聚光器的制作方法，其特征在于：步骤①加工聚光器的材料采用玻璃、或石英、或聚合物；聚光器的类型为菲涅耳透镜或者是球透镜。

3.根据权利要求1所述的基于纳米结构的全光谱广角聚光器的制作方法，其特征在于：步骤②所述聚光器的两面为平面、或曲面。

4.根据权利要求1所述的基于纳米结构的全光谱广角聚光器的制作方法，其特征在于：步骤②在聚光器的两面通过热蒸发、或电子束沉积、或磁控溅射、或原子层沉积金属膜，金属膜为Ni膜、或Au膜、或Ti膜、或Al膜。

5.根据权利要求1所述的基于纳米结构的全光谱广角聚光器的制作方法，其特征在于：步骤③形成的金属球的形状呈球形、或半球形。

6.根据权利要求1所述的基于纳米结构的全光谱广角聚光器的制作方法，其特征在于：步骤④所述的干法刻蚀，具体是反应离子刻蚀、或感应耦合等离子体刻蚀、或电子回旋共振刻蚀。