[发明专利]荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种等离子体显示板的面板介质层制造技术，尤其涉及荫罩式等离子体显示板上介质层的制备技术，具体的说是一种荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备方法。

背景技术

目前在荫罩式等离子体显示板的生产过程中，介质层的制备工艺主要有干膜热压和丝网印刷两种方法。干膜热压的工艺方法虽然较为简单且介质层的性能稳定，但目前介质干膜主要依靠进口，价格高昂，存在着成本较高的缺点；而丝网印刷法虽然廉价却存在多次印刷烧结后容易出现介质层透明度不佳的问题。因此，现有的介质层制备方法无法达到方法简单、生产成本低、介质层的性能稳定和透明度好的要求，不能满足现有技术的需要。

发明内容

本发明的目的是针对现有介质层制作工艺中存在的介质干膜主要依靠进口，价格高昂，成本高；而丝网印刷法虽然廉价却存在多次印刷烧结后容易出现介质层透明度不佳的问题，提出一种方法简单、生产成本低、介质层的性能稳定和透明度好的荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备方法。

本发明的技术方案是：

一种荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备方法，它包括以下步骤：

(a).在预先制作好电极并清洗干净的荫罩式等离子体显示板上印刷或涂覆一层光敏介质层，然后在180～230℃左右条件下烘干20～30min；

(b).将掩膜板和荫罩式等离子体显示板对位准确使得掩膜板遮盖荫罩式等离子体显示板的非电极区域，然后进行曝光30～90s，仅使得电极线正上方的光敏介质得到曝光固化；

(c).将曝光后的荫罩式等离子体显示板放在碱性显影溶液中进行显影，显影时间为1～20min；

(d).对显影后的荫罩式等离子体显示板进行冲洗和烘干，然后在540～590℃的氧气气氛下进行烧结，使得光敏介质层将电极线完全包裹住完成荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备。

本发明的碱性显影溶液是质量比为1％～10％的碳酸钠、碳酸氢钠或乙醇胺溶液。

本发明的荫罩式等离子体显示板的电极是由银、铜、铝中的至少一种金属材料构成。

本发明的有益效果：

本发明具有介质层制作的方法简单、生产成本低、介质层的性能稳定和多次印刷烧结后介质层透明度透明度依然好的优点。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步的说明。

一种荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备方法，先在预先制作好电极并清洗干净的荫罩式等离子体显示板上印刷或涂覆一层光敏介质，然后通过烘干、曝光、显影等方法，使得光敏介质仅仅覆盖在电极线上，而电极线间则无介质存在，将制作好介质层后的荫罩式PDP面板经冲洗、烘干后，再通过低温烧结工艺形成玻璃化的绝缘介质层，并使得介质层能将电极线完全包裹住。

本发明所述的光敏介质层的制备方法是先将印刷或涂覆好光敏介质后的荫罩式等离子体显示板在200℃左右条件下烘干20～30min。

本发明所述的制备好光敏介质层的荫罩式等离子体显示板进行曝光处理，在曝光过程中，要求掩膜板和荫罩式等离子体显示板的对位必须准确，使得仅有电极线正上方的光敏介质得到曝光固化，曝光时间为30～90s。

本发明所述的曝光后的荫罩式等离子体显示板在质量比为1％～10％的碳酸钠、碳酸氢钠或乙醇胺等碱性溶液中进行显影，显影时间为1～20min。

本发明所述的显影的荫罩等离子体显示板经冲洗、烘干后，在540℃～590℃的氧气气氛下进行烧结，并使得介质层能将电极线完全包裹住。

实施例一：

一种荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备方法，它包括以下步骤：

(a).在预先制作好电极并清洗干净的荫罩式等离子体显示板上印刷或涂覆一层光敏介质层，然后在200℃烘干20min；

(b).将掩膜板和荫罩式等离子体显示板对位准确使得掩膜板遮盖荫罩式等离子体显示板的非电极区域，然后进行曝光30s，仅使得电极线正上方的光敏介质得到曝光固化；

(c).将曝光后的荫罩式等离子体显示板放在碱性显影溶液中进行显影，显影时间为6min，碱性显影以碳酸钠为例；

(d).对显影后的荫罩式等离子体显示板进行冲洗和烘干，然后在540℃的氧气气氛下进行烧结，使得光敏介质层将电极线完全包裹住完成荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备。

实施例二：

一种荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备方法，它包括以下步骤：

(a).在预先制作好电极并清洗干净的荫罩式等离子体显示板上印刷或涂覆一层光敏介质层，然后在200℃烘干30min；