[发明专利]用于PDP显示器的选择性光吸收纳米薄膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种PDP显示用选择性光吸收膜及其制备方法，属于显示材料制造领域，尤其涉及四氮杂卟啉金属配合物的纳米材料制备领域。

背景技术

PDP显示原理为对上、下玻璃基板之间充满的气体，利用加电压方法使其放出紫外线，紫外线照射到玻璃管表面的荧光粉放出可视光线。利用气体放电产生的紫外线照射到荧光粉而发光的平板显示器，带电极的两张玻璃基板之间存在无数微小隔离物，因此每个相邻单元之间能够保持一定的间距，并呈重叠状。两玻璃基板之间，充满密封气体(Ne、Xe)，用于放电。

当Ne气体放电时会产生592nm的橙色光，橙色光的出现破坏了色纯，因此必须消除，这就是通称的Ne-cut。

目前通用的方法是采用涂胶的方式来制作吸收592nm的橙色光的染料，现使用得最广泛的材料是包括酞菁、萘酞菁和卟啉及其衍生物在内的大环化合物。

此方法严重影响了PDP彩电的透光率，透光率的损失超过20％，这就是目前PDP屏蔽膜组件透光率都在40％-50％之间的主要原因之一。

高清等离子彩电的分辨率已经达到1920×1080，随着显示尺寸的增大，分辨率还要提高。现用的染料吸收方式除了透光率因素外，其雾度已成为高清显示的的主要障碍，亟待解决。

发明内容

为了解决现有技术存在的PDP屏蔽滤光膜的整体透光率低的缺点，本发明提供了一种用于PDP显示器的选择性光吸收纳米薄膜及其制备方法，采用本发明的方法制备的用于PDP显示器的选择性光吸收纳米薄膜可以有效提高PDP显示器的亮度。

本发明的技术方案为：一种用于PDP显示器的选择性光吸收纳米薄膜，所述光吸收纳米薄膜包含柔性有机底材料层、选择性光吸收层，柔性有机底材料层上设有选择性光吸收层，选择性光吸收层由橙色光吸收染料制成。光吸收纳米薄膜的厚度在10nm～40nm之间。具体厚度的选择要根据PDP显示的结构、Ne气的比例等因素，最佳值为正好完全吸收转换Ne的592nm橙色光。所述的柔性有机底材料层为聚对苯二甲酸乙二酯材料，简称PET材料。选择柔性有机基底材料的目的是为了能够实现连续缠绕镀膜，这样可以便捷地实现大规模生产，低成本高产出。对PET材料的要求主要是耐候性、耐腐蚀性好、热膨胀系数小，材料的密度高，不会龟裂。所述的橙色光吸收染料为四叔丁基四氮杂卟啉钴、四叔丁基四氮杂卟啉铅中的任意一种。在有机底材料层和选择性光吸收层中间设有中间过渡层，中间过渡层的层数为1～20，中间过渡层可以为TiO₂层、Ag层、金属晶体防反射层、ITO层等过渡层。

所述的用于PDP显示器的选择性光吸收纳米薄膜的制备方法，包括如下步骤：

第一步，制备靶材：按质量比5∶20∶1的比例，在反应瓶中加入配体四叔丁基四氮杂卟啉、无水氯化钴或无水氯化铅、钼酸铵，然后按1g四叔丁基四氮杂卟啉/80ml三氯苯的比例，再加入三氯苯，氮气保护，加热回流4小时，减压蒸去溶剂，按体积比10∶1的比例将苯和氯仿混合后作为流动相，硅胶柱进行层析分离，得到四叔丁基四氮杂卟啉钴或者四叔丁基四氮杂卟啉铅，加工制成矩形靶材；

第二步，磁控溅射：利用第一步制备的靶材，在柔性有机底材料上通过磁控溅射沉积一层纳米选择性光吸收层，控制光吸收纳米薄膜的厚度为10nm～40nm。在柔性有机基底材料的一面做硬化处理，处理后的表面硬度要求需达到彩电企业标准，在柔性有机底材料上还可以设有1～20层过渡层。

用于PDP显示器的选择性光吸收纳米薄膜用于制备PDP有机基底滤光屏蔽膜。

有益效果：本发明所制备的光吸收膜，采用酞菁母体大环的四氮杂卟啉金属配合物，其吸光特性与铅酞菁类似，含铟和铅的重金属酞菁材料已被证明是最灵敏的吸收光吸收材料。研究资料显示四叔丁基四氮杂卟啉铅及四叔丁基四氮杂卟啉钴在570～630nm之间有极佳的吸收效果。用溅射镀膜的方式制备选择性光吸收纳米薄膜，吸收592nm橙色光。因为纳米技术的使用，大幅度提高了产品的均匀性及密度，减小了厚度，提高了透光率。用此技术制备的PDP屏蔽滤光膜的整体透光率可以达到60％-70％，比现有产品的亮度提高20％。

附图说明

图1为本发明的用于PDP显示器的选择性光吸收纳米薄膜的剖面结构示意图。

图中1为光吸收层，2为过渡层，3为柔性有机底材料层。

图2四叔丁基四氮杂卟啉钴和四叔丁基四氮杂卟啉铅的吸收光谱。

具体实施方式

实施例1

所述的用于PDP显示器的选择性光吸收纳米薄膜的制备方法，包括如下步骤：