[发明专利]一种含有四唑基团的化合物及其聚合物无效
申请号: | 200910033678.9 | 申请日: | 2009-06-05 |
公开(公告)号: | CN101591304A | 公开(公告)日: | 2009-12-02 |
发明(设计)人: | 朱秀林;薛小强;朱健;张正彪;程振平 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | C07D257/04 | 分类号: | C07D257/04;C08F120/34;C08F297/00 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陶海锋 |
地址: | 215123江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 含有 基团 化合物 及其 聚合物 | ||
技术领域
本发明涉及一种含有四唑基团的化合物,以及以该化合物为单体制备的均聚物和嵌段聚合物。
背景技术
偶氮苯基团是一种具有光学活性的官能团,在光或热的作用下进行反-顺和顺-反的可逆异构化转变,引起其几何和电子效应的可逆变化,可以作为光敏感基团。将偶氮苯基团引入高分子聚合物中,既具有偶氮基团的光学活性,又具有高分子材料优异的热力学和加工成膜性能,可以应用于光信息存储材料、非线性光学材料、液晶材料、光电子器件等领域。因此设计和制备新型偶氮聚合物并深入探讨分子结构与其光学方面的性能的关系成为目前国际上十分活跃的研究课题之一。
近几年来,关于偶氮聚合物的研究得到了快速的发展,而高分子合成方法技术促进了偶氮聚合物结构多样化的发展。偶氮苯基团可以通过后修饰方法引入到聚合物侧链中(参见:Sun,B.;Zhu.X.L.;Zhu,J.;Cheng,Z.P.;Zhang,Z.B.;Macromolecular Chemistry and Physics 2007,208,1101-1109),或者合成偶氮功能性单体通过不同聚合方法制备出主侧链型偶氮聚合物(参见:(a)Hore.D.;Natansohn,A.;Rochon,P.J Phys Chem B 2003,107,2197-2204.(b)Acierno,D.;Amendla,E.;Bugatti,V.Concilio,S.;Giorgini,L.;Iannolli,P.;Piotto.P.P.;Macromolecules 2004,37,6418-6423.),研究聚合物的液晶光栅等性能。也可以通过掺杂的方法制备出含偶氮化合物的掺杂型偶氮膜(参见:Todorov,T.;Nikolova,L.;Tomova,N.Appl.Opt.1984,23,4309-4312.),但仍然具有偶氮小分子存在的缺陷。
传统自由基聚合方法由于操作简单可行成为合成侧链型偶氮功能性聚合物最常用的方法之一。但是要合成分子量可控,结构规整的聚合物,常规的自由基聚合无法实现。
活性自由基聚合提供了传统聚合反应所无法提供的手段,使得高分子的分子设计成为现实。近年来活性自由基聚合方法得到快速的发展,根据机理不同包括,原子转移自由基聚合(ATRP),可逆加成一断裂链转移(RAFT)聚合和氮氧稳定自由基聚合(NMP)等。利用活性自由基聚合方法,科研工作者成功合成了结构规整、分子量可控的偶氮聚合物,并利用其优点设计了嵌段(参见:Sin,S.L.;Gan,L.H.;Hu,X.;Tam,K.C.;Gan,Y.Y.Macromolecules 2005,38,3943-3948.),星型(参见:Zhang,Y.Y.;Zhang,W.;Chen,X.R.;Cheng,Z.P.;Wu,J.H.;Zhu,J.;Zhu,X.L.J Polym Sci Part A:Polym Chem2008,46,777-789.)和梳状(参见:唐新德,曹俊,王彦敏.功能材料.2007,38.583-585.)等新型偶氮聚合物。想比较而言,利用RAFT聚合技术,相对ATRP方法制备偶氮聚合物有自己独特优势,如没有金属盐的参加聚合,适合的单体更广泛,如含些多氮杂环基团。
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