[发明专利]镭射修补方法及其结构

权利要求书

1.一种镭射修补方法，其特征在于：包括下列步骤，

(A)提供一第一玻璃基板及一第二玻璃基板，于该第一玻璃基板及该第二玻璃基板之间设有多个第一光间隔物，在该第一玻璃基板上设置多条扫描线和多条数据线，在该扫描线和数据线上的镭射修补区分别设置多个特定区域，且于至少一特定区域布置多个第二光间隔物，在该第一玻璃基板及该第二玻璃基板之间夹住一层液晶以成为一液晶显示面板；以及

(B)当检测该液晶显示面板具有至少一缺陷时，进行镭射修补，根据该缺陷的位置，将一激光束由该第一玻璃基板的正面打入，通过该第二光间隔物将该激光束与该第二玻璃基板隔绝，便于进行镭射修补的动作；

(C)镭射修补后于该第一玻璃基板上对应于镭射修补的位置会形成有已修补画素单元。

2.根据权利要求1所述的镭射修补方法，其特征在于：该第一玻璃基板上具有薄膜晶体管，该第二玻璃基板上具有彩色滤光片。

3.根据权利要求1所述的镭射修补方法，其特征在于：该缺陷为一断路缺陷。

4.根据权利要求3所述的镭射修补方法，其特征在于：该断路缺陷是点缺陷或线缺陷。

5.根据权利要求1所述的镭射修补方法，其特征在于：该第一光间隔物与该第二光间隔物相同或不同。

6.根据权利要求1所述的镭射修补方法，其特征在于：该特定区域是画素单元与画素单元间的区域。

7.一种镭射修补结构，其特征在于：包括，

一第一玻璃基板及一第二玻璃基板，在该第一玻璃基板上设置多条扫描线和多条数据线，在该扫描线和数据线上的镭射修补区分别设置多个特定区域；

一层液晶，位于该第一玻璃基板及该第二玻璃基板之间；

多个第一光间隔物及多个第二光间隔物，位于该第一玻璃基板及该第二玻璃基板之间，且该等第二光间隔物设于至少一特定区域；以及

利用该等第二光间隔物完成镭射修补，镭射修补后于该第一玻璃基板上对应于镭射修补的位置会形成有已修补画素单元。

8.根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于：该第一玻璃基板上具有薄膜晶体管，该第二玻璃基板上具有彩色滤光片。

9.根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于：于该第一玻璃基板上表面由下至上依序设有一扫描线、一绝缘层、一介电层、一第一导电薄膜及一第一配向膜。

10.根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于：于该第一玻璃基板上表面由下至上依序设有一扫描线、一绝缘层、一讯号线、一介电层、一第一导电薄膜及一第一配向膜。

11.根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于：于该第一玻璃基板上表面由下至上依序设有一扫描线、一绝缘层、一讯号线、一介电层及一第一配向膜。

12.根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于：于该第一玻璃基板上表面由下至上依序设有一绝缘层、一讯号线、一介电层、一第一导电薄膜及一第一配向膜。

13.根据权利要求9或10或11所述的镭射修补结构，其特征在于：该缺陷的位置位于该扫描线。

14.根据权利要求10或11或12所述的镭射修补结构，其特征在于：该缺陷的位置位于该讯号线。

15.根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于：该等第一光间隔物与该等第二光间隔物是相同或不同。

16.根据权利要求7所述的镭射修补结构，其特征在于：该特定区域是画素单元与画素单元间的区域。