[发明专利]一种可剥离的超薄转移载体金属箔及其制造方法

权利要求书

1、一种可剥离的超薄转移载体金属箔，其特征在于：包括超薄金属箔和可剥离的转移胶膜，转移胶膜上设置有低粘度胶层，超薄金属箔与可剥离的转移胶膜通过低粘度胶层贴合连接。

2、如权利要求1所述的一种可剥离的超薄转移载体金属箔，其特征在于：所述的超薄金属箔另一表面覆盖有保护膜。

3、如权利要求1所述的一种可剥离的超薄转移载体金属箔，其特征在于：所述的超薄金属箔的厚度为0.1～9微米。

4、如权利要求1所述的一种可剥离的超薄转移载体金属箔，其特征在于：所述的超薄金属箔是铜箔，保护膜是离形膜。

5、一种可剥离的超薄转移载体金属箔的制造方法，制造步骤如下：

(1)、形成光亮基体载带；

(2)、在光亮基体载带上电沉积金属，形成可剥离的金属箔；

(3)、在金属箔上贴合转移胶膜，将金属箔揭下转移至转移胶膜上。

6、如权利要求5所述的一种可剥离的超薄转移载体金属箔的制造方法，其特征在于：所述的光亮基体载带由基体层、真空镀层和表面金属光亮层组成，基体层最少一侧表面进行真空溅射镀上真空镀层，真空镀层上电沉积表面金属光亮层。

7、如权利要求6所述的一种可剥离的超薄转移载体金属箔的制造方法，其特征在于：所述的真空镀层为真空磁控溅射镍层。

8、如权利要求6所述的一种可剥离的超薄转移载体金属箔的制造方法，其特征在于：所述的表面金属光亮层是电镀镍层、电镀铬层或者电镀镍铬合金层，反光率在40-90％。

9、一种光亮基体载带的制作方法，其制作步骤如下：

①、对基体进行表面处理，使其表面张力为40-90达因；

②、在基体最少一侧表面进行真空溅射镀上真空镀层；

③、在真空镀层的表面进行光亮化处理，形成表面金属光亮层。