[发明专利]以石英坩埚为原料制备方石英材料的方法

权利要求书

1.以石英坩埚为原料制备方石英材料的方法，其特征在于所述石英坩埚在硅材料生产过程中经高温处理过，该石英坩埚经表面除杂、破碎、研磨和筛分后，得到SiO₂含量大于99％(重量)的高纯度方石英材料；所述硅材料生产过程包括硅熔炼过程，所述石英坩埚是在硅熔炼过程中已使用过的石英陶瓷坩埚；所述高温处理的温度为1400～1600℃，高温处理后石英坩埚由原始的玻璃态石英转变为方石英晶形。

2.根据权利要求1所述的所述的以石英坩埚为原料制备方石英材料的方法，其特征在于所述高温处理的温度为1500～1550℃。

3.根据权利要求1所述的以石英坩埚为原料制备方石英材料的方法，其特征在于所述表面除杂为采用物理或化学方法除去所述石英坩埚表面的杂质，该杂质包括灰份、硅杂质。

4.根据权利要求3所述的以石英坩埚为原料制备方石英材料的方法，其特征在于所述物理方法是通过机械打磨或喷砂除去石英坩埚表面的杂质。

5.根据权利要求3所述的以石英坩埚为原料制备方石英材料的方法，其特征在于所述化学方法是采用化学溶液浸泡除去石英坩埚表面的杂质，所述化学溶液中有含氟化合物。

6.根据权利要求5所述的以石英坩埚为原料制备方石英材料的方法，其特征在于所述含氟化合物为氢氟酸或氟化氢氨。

7.根据权利要求1～6任一项所述的以石英坩埚为原料制备方石英材料的方法，其特征在于所述高纯度方石英材料为粉料或块料，方石英粉的粒度范围为1～1000微米，方石英块料尺寸为1～200毫米。

8.根据权利要求7所述的以石英坩埚为原料制备方石英材料的方法，其特征在于所述破碎，研磨和筛分工艺采用干法或湿法。