[发明专利]光照布局仿真方法及系统

权利要求书

1.一种光照布局仿真方法，包括下述步骤：

①、为每个电光源——至少为每个电光源的发光部位，绘制三维模型；

②、在三维模型发光部位的表面上设定均匀、密布的点，并自每个点出发，沿法线方向，向外设置一条射线，所有射线构成电光源的光线模型；

③、根据待照射面的形状及其与电光源之间的相对位置，在所述光线模型的相应位置上截取相应截面，每根被截取的射线在所述截面上形成一个截点。

2.如权利要求1所述的光照布局仿真方法，其特征在于：其还包括下述步骤：

④、通过实验测定电光源，在待照射面某一区域上的实际照射强度，找出该区域实际照射强度与步骤③所得截面的相应区域的截点密度的比例关系，利用该比例关系，通过步骤③所得截面其他区域的截点密度，推算出电光源在待照射面相应区域的照度。

3.如权利要求2所述的光照布局仿真方法，其特征在于：其还包括下述步骤：

⑤、依照步骤④推算出的照度，与实际照度要求之间的差距，调整步骤②所述电光源的光线模型的数量、种类、位置、角度及组合方式，然后，重复第③、④步，直至依照步骤④推算出的照度与实际照度要求相符。

4.如权利要求1或2或3所述的光照布局仿真方法，其特征在于：为所述电光源设计折光件或反光件，相应地在第①步中，应为每个折光件或反光件——至少为其工作面建立相应的三维模型；在第②步所述射线与前述工作面相遇时，也相应地发生折射或反射，这些射线，和未与前述工作面相遇的射线共同组成电光源的光线模型。

5.如权利要求1或2或3所述的光照布局仿真方法，其特征在于：为所述电光源设计折光件和反光件，相应地在第①步中，应为每个折光件和每个反光件——至少为其工作面建立相应的三维模型；在第②步所述射线与前述工作面相遇时，也相应地发生折射或反射，这些射线，和未与前述工作面相遇的射线共同组成电光源的光线模型。

6.一种光照布局仿真系统，其特征在于：包括数据库和截面截取装置，其中数据库内存有多种电光源的三维模型，至少存有多种电光源的发光部位三维模型，在三维模型的发光部位的表面上设定均匀、密布的点，并自每个点出发，沿法线方向，向外设置一条射线；所有射线构成电光源的光线模型，所述截面截取装置根据待照射面与电光源之间的相对位置，在所述光线模型的相应位置上的截取截面，且其截面形状与待照射面的形状相对应。

7.如权利要求1所述的光照布局仿真系统，其特征在于：其还配用光线模型调整装置，用于调整步骤所述光线模型的数量、种类、位置、角度及组合方式。