[发明专利]多孔材料外负载TiO2-X/Csulf复合体及其制备工艺无效
申请号: | 200910043523.3 | 申请日: | 2009-05-27 |
公开(公告)号: | CN101632943A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | 李佑稷;胡文勇 | 申请(专利权)人: | 吉首大学 |
主分类号: | B01J35/10 | 分类号: | B01J35/10;B01J21/06;B01J23/745;B01J23/50;B01J23/34;B01J23/72;B01J23/26;B01J37/00;C02F1/30 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 | 代理人: | 魏国先 |
地址: | 416000湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多孔 材料 负载 tio sub sulf 复合体 及其 制备 工艺 | ||
1.一种多孔材料外负载TiO2-X/Csurf.复合体的制备工艺,通过流体具有的 超溶解性、强扩散性和独特传质性,使溶质溶解形成过饱和溶液,解临界条 件导致其结晶沉淀;利用该方法以超临界CO2流体为溶剂,以多孔材料为模板, 将低分子量有机溶液渗透到孔隙里,然后经凝结沉淀,实现对多孔材料孔隙 封堵,制备多孔材料——低分子封堵载体;然后以此为双模板,采用溶胶— —凝胶法制备出TiO2-X溶胶体负载在封堵载体表面,再通过低温热处理、高 温焙烧合成多孔材料外负载TiO2-X/Csurf复合体;其特征在于具体制备工艺 为:
(1)通过超临界流体沉淀过程、使低分子有机溶液渗透到多孔材料孔隙 中,解除临界状态使其沉淀、制备多孔材料-低分子封堵载体;
(2)以钛酸丁酯为起始原料,以无水乙醇为溶剂、二乙醇胺为螯合剂, 在蒸馏水、浓盐酸的相互作用下,合成TiO2-X胶体;
(3)通过溶胶-凝胶过程使TiO2-X的前驱体溶胶涂覆在多孔材料-低分 子封堵载体上,制备TiO2-X前驱体/Csurf.复合材料;
(4)通过高温焙烧TiO2-X前驱体/Csurf.复合材料,获得TiO2-Fe/Csurf.、 TiO2-Ag/Csurf.、TiO2-Mn/Csurf.、TiO2-Cu/Csurf.即TiO2-X/Csurf.复合纳米材料; 上述式中Csurf.为炭表面;
上述多孔材料为活性炭;低分子化合物为异丁醇、硬脂酸、石蜡、固体 酒精;
所述超临界条件:升温速率2-4℃,温度34.1-300℃,压强7.1-50MPa; 解临界条件:首先停止加热,让超临界釜冷却,达到温度为低分子化合 物凝固点以下温度;
X的无机物前驱体为硝酸铁、硝酸银、硝酸铜、硝酸锰;
上述TiO2-X的前驱体溶胶涂覆在多孔材料-低分子封堵载体上为:将多孔 材料-低分子封堵载体放入TiO2-X溶胶体内,然后通过超声震动作用,使溶 胶体涂覆在封堵载体表面上,涂覆次数1-8次,超声时间10-300min;
上述焙烧前,TiO2-X前驱体/Csurf.进行热处理的温度为100-300℃,时间 1-3h,升温速率为0.5-3℃/min;
上述焙烧温度为300-1000℃,时间1-3h,升温速率为0.5-3℃/min之间。
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