[发明专利]自调整式曝光路径规划方法

权利要求书

1.一种自调整式曝光路径规划方法，其特征在于包括下列步骤：

得到硅片表面上的第一路径计算信息；以及

判断路径规划文件中已存在的其他路径计算信息中是否存在和上述第一路径计算信息相同的第二路径计算信息，

当上述其他路径计算信息中存在和上述第一路径计算信息相同的上述第二路径计算信息时，则直接读取上述第二路径计算信息对应的已规划路径，当上述其他路径计算信息中不存在和上述第一路径计算信息相同的上述第二路径计算信息时，则利用蚁群算法计算出上述第一路径计算信息的优化路径。

2.根据权利要求1所述的自调整式曝光路径规划方法，其中上述硅片表面上的上述第一路径计算信息由一上位机得到。

3.根据权利要求1所述的自调整式曝光路径规划方法，其中上述第一路径计算信息包括硅片表面的调平调焦标记点分布、对准标记点分布以及曝光场区域分布。

4.根据权利要求3所述的自调整式曝光路径规划方法，其中上述蚁群算法利用上述硅片表面的调平调焦标记点、上述对准标记点和上述曝光场区域作为算法计算点。

5.根据权利要求3所述的自调整式曝光路径规划方法，其中上述蚁群算法增加了“残留信息的相对重要程度”和“期望值的相对重要程度”的相互关系。

6.根据权利要求1所述的自调整式曝光路径规划方法，其中更包括下列步骤：利用上述蚁群算法计算上述路径规划文件中所有路径计算信息的更优路径。

7.根据权利要求6所述的自调整式曝光路径规划方法，其中更包括下列步骤：将上述更优路径保存至上述路径规划文件。