[发明专利]一种化学机械抛光液

权利要求书

1.一种化学机械抛光液，其特征在于：其含有有机酸类化合物、核酸类化合物、研磨颗粒、氧化剂和载体。

2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的有机酸类化合物选自氨基酸、有机膦酸、多元羧酸和有机磺酸中的一种或多种。

3.如权利要求2所述的抛光液，其特征在于：

所述的氨基酸为甘氨酸、丙氨酸、亮氨酸、异亮氨酸、缬氨酸、胱氨酸、半胱氨酸、甲硫氨酸、苏氨酸、丝氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、色氨酸、脯氨酸、羟脯氨酸，谷氨酸、天门冬氨酸、赖氨酸和精氨酸中的一种或多种；

所述的有机膦酸为羟基亚乙基二膦酸、氨基三亚甲基膦酸、2-羟基膦酰基乙酸、多氨基多醚基四亚甲基膦酸、乙二胺四甲基膦酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、有机膦磺酸和多元醇膦酸酯中的一种或多种；

所述的多元羧酸为柠檬酸、草酸、酒石酸、琥珀酸、马来酸以及上述化合物的水溶性盐中的一种或多种；

所述的有机磺酸为甲基磺酸、乙基磺酸、二甲基磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、丁基磺酸内酯以及上述化合物的水溶性盐中的一种或多种。

4.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的有机酸的含量为质量百分比0.01～5％。

5.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的核酸类化合物为腺嘌呤、鸟嘌呤、胞嘧啶、胸腺嘧啶和尿嘧啶中的一种或多种。

6.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的核酸类化合物的含量为质量百分比0.01～5％。

7.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒为二氧化硅、氧化铝、氧化铈和聚合物颗粒中的一种或多种。

8.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒的粒径为20～200nm。

9.如权利要求8所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒的粒径为30～100nm。

10.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒的含量为质量百分比0.05～15％。

11.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的氧化剂为过氧化氢、过氧化氢脲、过氧乙酸、过氧化苯甲酰、过硫酸钾和过硫酸铵中的一种或多种。

12.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的氧化剂的含量为质量百分比0.01～10％。

13.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的载体为水。

14.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的抛光液的pH值较佳的为2.0～11.0，更佳的为3.0～7.0或9.0～11.0。

15.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的抛光液还含有表面活性剂、稳定剂、杀菌剂以及含氮唑类化合物中的一种或多种。