[发明专利]用于光刻装置的对准标记、对准系统及其对准方法

权利要求书

1.一种用于光刻装置的对准标记，所述标记包括用于粗对准的第一部分结构和 用于精对准的第二部分结构，其特征在于：

所述第一和第二部分结构均由透光单元和不透光单元组成；

所述第二部分结构包含多个光栅结构，所述每个光栅结构由多个非周期一 维光栅标记排列而成，所述一维光栅标记中的透光单元呈轴对称分布；

所述第二部分结构的任意一个光栅结构中的各个透光单元的长度与宽度相 等，且所述第二部分结构的多个光栅结构中的透光单元的面积相等，即满足： S=Ni*LW_i*DW_i，其中S为任意一个光栅结构的透光面积，LW_i、DW_i和Ni分别 是某一光栅结构中透光单元的长度、宽度和透光单元的个数，i为任意自然数；

所述第二部分结构的任意一个光栅结构的透光面积S与第一部分结构的透 光面积呈比例关系，满足公式：N0*(DL₀-PAS)²＝a*S，其中，N0和DL₀分别为 第一部分结构中透光单元的个数及各个透光单元的边长，PAS为预对准精度，a 为光栅结构的透光面积S与第一部分结构的透光面积之间的比例系数。

2.一种如权利要求1所述的对准标记，其特征在于，所述第一部分结构的透光 单元呈中心对称分布。

3.一种如权利要求1所述的对准标记，其特征在于，所述第一部分结构为归一 化标记。

4.一种如权利要求1所述的对准标记，其特征在于，所述第一部分结构为矩形。

5.一种如权利要求1所述的对准标记，其特征在于，所述第二部分结构用于实 现两个方向对准。

6.一种用于光刻装置的对准系统，用以实现第一物件相对于第二物件的位置关 系，包括：光源系统，投影成像物镜，探测系统，以及位于第一物件的透射式 对准标记和位于第二物件的参考标记，其特征在于：所述透射式对准标记与参 考标记包括用于粗对准的第一部分结构和用于精对准的第二部分结构，所述第 一和第二部分结构均由透光单元和不透光单元组成；所述第二部分结构包含多 个光栅结构，所述每个光栅结构由多个非周期一维光栅标记排列而成，所述一 维光栅标记中的透光单元呈轴对称分布；

所述第二部分结构的任意一个光栅结构中的各个透光单元的长度与宽度相 等，且所述参考标记的第二部分结构的多个光栅结构的透光面积相等，即满足： S=Ni*LW_i*DW_i，其中S为任意一个光栅结构的透光面积，LW_i、DW_i和Ni分别 是某一光栅结构中透光单元的长度、宽度和透光单元的个数，i为任意自然数；

所述第二部分结构的任意一个光栅结构的透光面积S与第一部分结构的透 光面积呈比例关系，满足公式：N0*(DL₀-PAS)²＝a*S，其中，N0和DL₀分别为 第一部分结构中透光单元的个数及各个透光单元的边长，PAS为预对准精度，a 为光栅结构的透光面积S与第一部分结构的透光面积之间的比例系数。

7.一种如权利要求6所述的对准系统，其特征在于，所述透射式对准标记与参 考标记的第一部分结构的透光部分呈中心对称分布。

8.一种如权利要求6所述的对准系统，其特征在于，所述透射式对准标记与参 考标记的第一部分结构为归一化标记。

9.一种如权利要求6所述的对准系统，其特征在于，所述透射式对准标记与参 考标记的第二部分结构用于实现两个方向对准。