[发明专利]沉淀法二氧化硅的表面处理方法及其应用有效
| 申请号： | 200910045579.2 | 申请日： | 2009-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN101481549A | 公开（公告）日： | 2009-07-15 |
| 发明（设计）人： | 贾丽亚;杨一力;李培 | 申请（专利权）人： | 蓝星有机硅（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09C1/28 | 分类号： | C09C1/28;C09C3/12 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所（普通合伙） | 代理人： | 翟 羽 |
| 地址： | 201108上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 沉淀 二氧化硅 表面 处理 方法 及其 应用 | ||
1.一种沉淀法二氧化硅的表面处理方法，其特征在于，具体步 骤为：
(1)将70～100份聚硅氧烷与增容剂在氮气气氛下去混合，其 中，增容剂占二氧化硅重量的8～20％；
所述的增容剂为六甲基二硅氮烷，且所述的聚硅氧烷为甲基聚硅 氧烷；
(2)70～100份的沉淀法二氧化硅采用分步渐次减少的加料法加 入，每次加料搅拌时间为20～60分钟，得到混合物，混合物在130℃ 以下反应3～12小时；
(3)将步骤(2)得到的混合物进行抽真空，温度为130～160℃， 时间为3～12小时；将反应性的端羟基聚硅氧烷加入，搅拌均匀；得 到的悬浮液再经三辊机研磨，得到均匀的二氧化硅及聚硅氧烷的悬浮 液。
2.如权利要求1所述的沉淀法二氧化硅的表面处理方法，其特征 在于，在所述的步骤(2)中，加料搅拌时间为30分钟，混合物的反 应时间为10小时。
3.如权利要求1所述的沉淀法二氧化硅的表面处理方法，其特征 在于，在所述的步骤(3)中，温度为140℃，时间为12小时。
4.如权利要求1或2所述的沉淀法二氧化硅的表面处理方法，其 特征在于，在所述的步骤(2)中，混合物在120～130℃下反应。
5.如权利要求1所述方法表面处理后的沉淀法二氧化硅在液体型 聚硅氧烷体系中的应用，其特征在于，在所述二氧化硅及聚硅氧烷的 悬浮液中加入填料，再加入交联剂，制备出液体硅橡胶产品。
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