[发明专利]浸没光刻机的浸液供给装置

权利要求书

1.一种浸没光刻机的浸液供给装置，包括浸液单元和浸液废弃单元，所述浸液废弃单元通过负压回收管路与所述浸液单元连接，其特征在于：所述负压回收管路设有缓冲泄压结构，所述缓冲泄压结构包括设置在负压回收管路管壁的泄压凹腔，所述泄压凹腔具有弧形凹口表面且凹口表面覆盖有弹性薄膜。

2.如权利要求1所述的浸没光刻机的浸液供给装置，其特征在于：所述缓冲泄压结构还包括填充在负压回收管路中的多孔介质。

3.如权利要求2所述的浸没光刻机的浸液供给装置，其特征在于：所述多孔介质采用聚乙烯板切割工艺、石英砂聚合工艺或陶瓷烧结工艺制造。

4.如权利要求1所述的浸没光刻机的浸液供给装置，其特征在于：还包括浸液储存单元和液体控制单元，所述浸液储存单元在液体控制单元控制下与所述浸液单元连接；所述浸液储存单元主要用于储存符合要求的浸液，并对浸液的各项指标进行初步控制；所述液体控制单元用于控制进入流场的浸液的流速、温度和质量；所述浸液单元用于建立均一、稳定、动态符合系统要求的流场，具有注入、密封、净化、吸出功能。

5.如权利要求4所述的浸没光刻机的浸液供给装置，其特征在于：所述浸液单元通过低压浸没液体注入管路与浸液储存单元连接。

6.如权利要求1所述的浸没光刻机的浸液供给装置，其特征在于：所述浸液单元还设置有用于提供并维持气密封所需流量和出口压力的气幕的高压密封气体注入管路。