[发明专利]用于微光刻的照明光学系统有效
申请号: | 200910046061.0 | 申请日: | 2009-02-10 |
公开(公告)号: | CN101477317A | 公开(公告)日: | 2009-07-08 |
发明(设计)人: | 张祥翔 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈 蘅;李时云 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 微光 照明 光学系统 | ||
1.一种用于微光刻的照明光学系统,包括:
光源;
石英棒,位于所述光源的光路上,所述光源发出的光经由所述石英棒的入射端进入并经由出射端射出;
中继透镜,位于所述石英棒的出射端的射出光路上;
照明场,位于所述中继透镜的出光光路上;其特征在于所述石英棒的入射端和出射端具有不同的口径;
其中,所述中继透镜为变焦镜组,包括第一变焦透镜和第二变焦透镜;
还包括,电机带动所述石英棒进行180度旋转;
采用变焦的中继透镜和石英棒旋转共同实现对数值孔径、曝光视场和相干因子的改变。
2.根据权利要求1所述的用于微光刻的照明光学系统,其特征在于所述电机为步进电机。
3.根据权利要求1所述的用于微光刻的照明光学系统,其特征在于所述光源为高压汞灯。
4.根据权利要求1所述的用于微光刻的照明光学系统,其特征在于所述照明场为掩模面。
5.根据权利要求1所述的用于微光刻的照明光学系统,其特征在于该系统包括聚光单元,位于所述光源和石英棒之间的光路上。
6.根据权利要求5所述的用于微光刻的照明光学系统,其特征在于所述聚光单元为变焦镜组。
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