[发明专利]一种光瞳测量装置及图像处理方法有效

专利信息
申请号: 200910046820.3 申请日: 2009-02-27
公开(公告)号: CN101487987A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 郭勇 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B27/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈 蘅;李时云
地址: 201203上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 测量 装置 图像 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种光瞳测量装置,其特征在于包括:

傅里叶透镜;

进光孔,位于所述傅里叶透镜一侧的焦面上;

电荷耦合器件,位于所述傅里叶透镜另一侧的焦面上;

图像处理系统,和所述电荷耦合器件相连;

所述光瞳测量装置在光路方向上放置于一投影物镜的一侧,所述投影物镜的另一侧放置一掩膜板。

2.根据权利要求1所述一种光瞳测量装置,其特征在于所述光瞳测量装置和一控制台相连,由所述控制台控制所述光瞳测量装置的运动。

3.根据权利要求1所述一种光瞳测量装置,其特征在于所述掩膜板上分布多个小孔。

4.根据权利要求3所述一种光瞳测量装置,其特征在于相邻所述小孔之间的距离相等。

5.根据权利要求3所述一种光瞳测量装置,其特征在于所述小孔的形状是圆形、方形或三角形。

6.一种使用如权利要求1所述装置的光瞳图像处理方法,其特征在于包括如下步骤:

所述装置之图像处理系统判断所述光瞳的类型;

所述图像处理系统确定所述光瞳图像的中心;

所述图像处理系统计算所述光瞳的能量;

所述图像处理系统计算所述光瞳椭圆度、极平衡性或同心性。

7.根据权利要求6所述一种光瞳图像处理方法,其特征在于还包括一步进扫描过程,测量装置在像面的二维方向步进扫描,分别测量掩膜上多个小孔的光瞳质量,评估其对光刻线条均匀性的影响。

8.根据权利要求6所述一种光瞳图像处理方法,其特征在于所述光瞳的类型包括圆孔照明光瞳、二极照明光瞳、四极照明光瞳和环形照明光瞳。

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