[发明专利]一种圆环形矢量光束聚焦系统无效

专利信息
申请号: 200910047850.6 申请日: 2009-03-20
公开(公告)号: CN101504490A 公开(公告)日: 2009-08-12
发明(设计)人: 高秀敏;郭汉明;王琦;李卓;庄松林 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09;G02B27/46;G02B7/182;G02B5/30
代理公司: 上海东创专利代理事务所 代理人: 宁芝华
地址: 20009*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 圆环 矢量 光束 聚焦 系统
【权利要求书】:

1.一种圆环形矢量光束聚焦系统,其特征在于:入射扩束整形器、外反射式圆锥面反射镜、圆柱筒形曲面偏振器、内反射式锥面反射镜、出射扩束整形器、入射二分之一波片、出射二分之一波片、空间光调制器和物镜同对称光轴依次设置在光源出射光束光路上;空间光调制器控制器与空间光调制器相连接。

2.根据权利要求1所述的一种圆环形矢量光束聚焦系统,其特征在于:外反射式圆锥面反射镜的反射锥面与内反射式圆锥面反射镜的反射锥面平行,并且外反射式圆锥面反射镜的反射锥面和内反射式圆锥面反射镜的反射锥面与对称光轴夹角范围均为35°~55°。

3.根据权利要求1所述的一种圆环形矢量光束聚焦系统,其特征在于:圆柱筒形曲面偏振器的圆柱曲面与外反射式圆锥面反射镜反射形成的径向传播光束垂直。

4.根据权利要求1所述的一种圆环形矢量光束聚焦系统,其特征在于:入射二分之一波片和出射二分之一波片光学工作平面相平行,并且入射二分之一波片和出射二分之一波片光学工作平面与对称光轴交角范围为80°~90°。

5.根据权利要求1所述的一种圆环形矢量光束聚焦系统,其特征在于:所述的入射扩束整形器为伽利略型扩束整形器或开普勒型扩束整形器的一种。

6.根据权利要求1所述的一种圆环形矢量光束聚焦系统,其特征在于:所述的外反射式圆锥面反射镜为外圆锥曲面镀反射膜的外反射式圆锥面反射镜或反射膜构成的圆锥曲面外反射式反射镜的一种。

7.根据权利要求1所述的一种圆环形矢量光束聚焦系统,其特征在于:所述的圆柱筒形曲面偏振器为圆柱筒形偏振膜或圆柱曲面壳式偏振元件的一种。

8.根据权利要求1所述的一种圆环形矢量光束聚焦系统,其特征在于:所述的内反射式圆锥面反射镜为内圆锥曲面镀反射膜的内反射式圆锥面反射镜或反射膜构成的圆锥曲面内反射式反射镜的一种。

9.根据权利要求1所述的一种圆环形矢量光束聚焦系统,其特征在于:所述的出射扩束整形器为伽利略型扩束整形器或开普勒型扩束整形器的一种。

10.根据权利要求1所述的一种圆环形矢量光束聚焦系统,其特征在于:所述的物镜为消色差物镜或复消色差物镜或平场消色差物镜或平场复消色差物镜的一种。

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