[发明专利]一种光催化自洁纳米二氧化钛搪瓷基板及其制备方法

权利要求书

1、一种光催化自洁纳米二氧化钛搪瓷基板，其特征在于原料的化学组成重量百分比为：

SiO₂：35.0～68.0％

Al₂O₃：0.5～3.0％

B₂O₃：10.0～20.0％

TiO₂：12.0～20.0％

K₂O：1.0～5.0％

Na₂O：5.0～12.0％

Na₂SiF₆：3.0～8.0％

P₂O₅：1.0～3.0％

2、如权利要求1所述的一种光催化自洁纳米二氧化钛搪瓷基板的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)、选用原料的化学组成的重量百分比为：SiO₂ 35.0～68.0％、Al₂O₃0.5～3.0％、B₂O₃ 10.0～20.0％、TiO₂ 12.0～20.0％、K₂O 1.0～5.0％、Na₂O₅ 0～12.0％、Na₂SiF₆ 3.0～8.0％、P₂O₅ 1.0～3.0％；

按上述化学组成，将各种成分换算成石英，长石，硼砂，二氧化钛，纯碱，冰晶，磷酸二氢钠等原料，称量混合，放入坩埚中，在1200～1300℃下进行熔化，熔化好后投入自来水中淬冷，捞出于120℃烘干制得搪瓷熔块；

(2)、将步骤(1)获得的搪瓷熔块与纳米二氧化钛、粘土、碳酸钾和去离子水按相对重量比为：搪瓷熔块100，纳米二氧化钛3～20，粘土5～7，碳酸钾0.1～0.5，去离子水45～55混合，之后球磨、研磨1～2个小时后，过80目筛制得搪瓷釉；

(3)、取钢板或铸铁，采用5～10％的HCl或H₂SO₄和8wt％的工业肥皂粉溶液进行除锈和除油污处理，烘干；

再将步骤(2)获得的搪瓷釉用浸搪方式对钢板涂搪瓷釉，然后在80～100℃烘箱中烘干，再在840～860℃的马弗炉中烧制得搪瓷基板；

(4)、重复步骤(3)程序可以制得多层含纳米二氧化钛的光催化自洁搪瓷基板。