[发明专利]折射率可控的多孔性二氧化硅减反膜的制备方法

权利要求书

1.一种折射率可控的多孔性二氧化硅减反膜的制备方法，该方法是采用先碱催化后酸催化的方法制备含有三维结构二氧化硅纳米颗粒和一维、二维结构硅氧链的复合纳米结构的涂膜液，适用于浸涂法、或喷涂法、或旋涂法，在基板上涂制多孔性二氧化硅基膜层，高温热处理后得到纯无机的多孔性二氧化硅膜层，其特征在于该方法包括下列具体步骤：

①碱催化溶液制备：

碱催化溶液原料的摩尔比为：正硅酸乙脂∶无水乙醇∶去离子水∶氨＝1∶(20.4～58.6)∶(2～5)∶(0.3～0.9)，选定原料的摩尔配比并称量原料置于玻璃容器中，室温混合搅拌0.2～24小时，密封后放入35～70℃烘箱中陈化1～50天后，溶液呈半透明；采用减压回流方法抽除溶液中的氨，使溶液的酸碱度呈中性；

②酸催化原料配方：

酸催化原料由正硅酸乙脂、无水乙醇、去离子水和氯化氢构成，其中正硅酸乙脂与碱催化溶液中的正硅酸乙脂的摩尔比为1∶(0.67～5.67)，而酸催化原料的摩尔比为：正硅酸乙脂∶无水乙醇∶去离子水∶氯化氢＝1∶(25.6～58.7)∶(4～5)∶(0.01～0.1)，根据上述配方并选定原料的摩尔比后，称量原料正硅酸乙脂、无水乙醇、去离子水和氯化氢；

③将经第①步回流后的溶液，边搅拌，边依次加入第②步称量的无水乙醇、正硅酸乙脂、去离子水和氯化氢，胶体的PH值3～4，之后再搅拌0.2～24小时后密封，室温放置陈化1-20天，待用；

④采用旋涂法或喷涂法进行基板单面涂膜，或采用浸涂法进行基板双面涂膜；

⑤涂膜基板在200℃预固化2～5分钟，再放入马弗炉650～730℃固化2分钟。

2.根据权利要求1所述的折射率可控的多孔性二氧化硅减反膜的制备方法，其特征在于所述的基板是建筑玻璃、光学玻璃或光学晶体。

3.根据权利要求1所述的折射率可控的多孔性二氧化硅减反膜的制备方法，其特征在于所述的基板是太阳能玻璃，则所述的第⑤步是将涂膜的太阳能玻璃在200℃预固化2～5分钟，再在生产线上钢化。

4.根据权利要求1所述的折射率可控的多孔性二氧化硅减反膜的制备方法，其特征在于所使用的原材料为分析纯原材。