[发明专利]玻片及其形成方法有效
| 申请号： | 200910049072.4 | 申请日： | 2009-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN101859022A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 林光远 | 申请（专利权）人： | 上海中晶科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B21/34 | 分类号： | G02B21/34;C23C14/24;C23C14/34;C25D5/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈亮 |
| 地址： | 200233 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 及其 形成 方法 | ||
1.一种玻片，包含：
一基板；以及
一金属图案，设置于该基板。
2.如权利要求1所述的玻片，其特征在于，该金属图案包含多条金属网格线，该些金属网格线定义出多个检体计算区。
3.如权利要求2所述的玻片，其特征在于，该检体计算区为矩形。
4.如权利要求2所述的玻片，其特征在于，该金属图案还包含一定位圆周。
5.如权利要求1所述的玻片，其特征在于，该金属图案包含一金属挡墙，该金属挡墙具有至少一开口。
6.如权利要求1所述的玻片，其特征在于，该金属图案具有一0.3奈米至100微米的预定高度。
7.如权利要求1所述的玻片，其特征在于，该基板的材料为玻璃或压克力。
8.如权利要求1所述的玻片，其特征在于，该基板为透明。
9.一种玻片形成方法，包含：
提供一基板；以及
设置一金属图案于该基板，其中该金属图案藉由真空蒸镀、溅镀、电镀、或上述方式的组合所形成。
10.如权利要求9所述的玻片形成方法，其特征在于，该金属图案包含多条金属网格线，该些金属网格线定义出多个检体计算区。
11.如权利要求10所述的玻片形成方法，其特征在于，该检体计算区为矩形。
12.如权利要求10所述的玻片形成方法，其特征在于，该金属图案还包含一定位圆周。
13.如权利要求9所述的玻片形成方法，其特征在于，该金属图案包含一金属挡墙，该金属挡墙具有至少一开口。
14.如权利要求9所述的玻片形成方法，其特征在于，该金属图案具有一0.3奈米至100微米的预定高度。
15.如权利要求9所述的玻片形成方法，其特征在于，该基板的材料为玻璃或压克力。
16.如权利要求9所述的玻片形成方法，其特征在于，该基板为透明。
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