[发明专利]一种轴承组件及其制造方法无效
申请号: | 200910051260.0 | 申请日: | 2009-05-14 |
公开(公告)号: | CN101886664A | 公开(公告)日: | 2010-11-17 |
发明(设计)人: | 杨岚 | 申请(专利权)人: | 上海浦东高桥试验机厂有限公司 |
主分类号: | F16C19/02 | 分类号: | F16C19/02;F16C33/58;C09J133/14;C09J175/04 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 雷绍宁 |
地址: | 200137 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 轴承 组件 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种轴承,特别涉及一种用于平衡机传动轴上的轴承组件以及其制造方法。
背景技术
平衡机是用来测量机械的旋转工件(转子)动不平衡量的大小和相位的专用设备。根据动平衡机测量结果对转子的不平衡量进行校正,使转子旋转时产生的振动或作用于轴承上的振动减少到允许的范围内,以达到减少振动、改善性能和提高产品质量的目的。平衡机在使用过程中,有时会因为测试的旋转工件的动不平衡量较大而影响平衡机的传动轴工作,使平衡机的传动轴产生振动。如果平衡机传动轴的振动幅值过大,则有可能会影响到平衡机运转的可靠性,使得平衡机对旋转工件动不平衡量测量结构不准确。
发明内容
针对上述现有技术的不足,本发明所要解决的技术问题是提供一种新型结构的轴承组件以及其制造方法,该轴承组件能够有效地减小由不平衡量所引起的传动轴振动振幅,使平衡机运转测量更加平稳可靠。
为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:
一种轴承组件,包括一套圈和一轴承,所述轴承位于所述套圈内,所述轴承和所述套圈同心设置,所述向心轴承和所述套圈之间设有一层减振材料。
优选的,所述轴承为向心球轴承。
一种制造上述轴承组件的方法,其步骤包括:
提供一个套圈和一个轴承,所述套圈的内径大于所述轴承的外径,所述套圈和所述轴承同心摆放;
在所述套圈和所述轴承之间的空隙内浇注高分子粘合剂;
使所述高分子粘合剂凝固。
优选的,所述高分子粘合剂由101胶水和聚氨脂黏合剂按重量比为5∶1组成。
优选的,所述高分子粘合剂还含有适量的醋酸乙酯。
优选的,所述套圈和所述轴承同心摆放是通过一工装实现,所述工装上设有一环形槽,所述环形槽的内径与所述轴承的内径基本相等,所述环形槽的外径与所述套圈的外径基本相等。
优选的,所述工装底部设有小孔,所述小孔与所述环形槽连通,所述高分子粘合剂凝固后形成的轴承组件可通过所述小孔从所述工装中取出。
本发明的有益效果在于:采用这种结构的轴承组件支撑平衡机的传动轴,当旋转工件的不平衡量引起套圈振动时,套圈和轴承之间的减振材料会对振动有一定得吸收和缓冲,使套圈对轴承的冲击减小,进而使得轴承上的传动轴振幅减小,因此可保证平衡机运转测量更加平稳可靠。
附图说明
图1为本发明实施例的结构示意图。
图2为本发明实施例方法中工装的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图,对本发明的实施例进行详细的介绍:
请参见图1,该轴承组件包括一向心球轴承1和一套圈2,向心球轴承1位于套圈2内,向心球轴承1和套圈2同心设置,向心球轴承1和套图2之间设有一层减振材料3。
上述轴承组件的制造步骤包括:首先提供一个套圈2和一个向心球轴承1,套圈2的内径大于向心球轴承1的外径,然后将套圈2和向心球轴承1放在一个特制的工装4内。请参见图2,工装4上设有一环形槽5,环形槽5的内径与向心球轴承1的内径基本相等,环形槽5的外径与套圈2的外径基本相等,工装4的底部设有小孔6,小孔6与环形槽5连通。将向心球轴承1,套圈2放入环形槽5内,在套圈2和向心球轴承1之间的空隙内浇注一种高分子粘合剂,该高分子粘合剂包含有铁锚101胶水、聚氨脂黏合剂和适量的醋酸乙酯,其中铁锚101胶水和聚氨脂黏合剂的重量比为5∶1。浇注完后,用抹布擦去溢出的高分子粘合剂,并在常温下保持30小时使该高分子粘合剂凝固,该高分子粘合剂凝固后形成减振层,然后可用螺钉通过小孔6将制得的轴承组件顶出。为了方便使用,可以对该轴承组件进行进一步地加工,如将该轴承组件放在外圆磨床上,对该轴承组件的外圆周磨外圆,已达到相应的图纸要求。
采用这种结构的轴承组件支撑平衡机的传动轴,当旋转工件的不平衡量引起套圈2振动时,套圈2和向心球轴承1之间的减振材料3会对振动有一定得吸收和缓冲,使套圈2对向心球轴承1的冲击减小,进而使得向心球轴承1上的传动轴振幅减小,因此可保证平衡机运转测量更加平稳可靠。
以上对本发明实施例所提供的一种轴承组件及其制造方法进行了详细介绍,对于本领域的一般技术人员,依据本发明实施例的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制,凡依本发明设计思想所做的任何改变都在本发明的保护范围之内。
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