[发明专利]氧化物缓冲层及其制备方法

权利要求书

1.一种氧化物缓冲层，其特征在于该缓冲层的化学式为Y_xCe_1-xO_2-0.5x，其中，0.2≤x≤0.8。

2.一种权利要求1所述的氧化物缓冲层的制备方法，其特征在于该方法具有以下的步骤：

a.金属靶材的制备：选取纯度重量百分比在99.999％以上的钇、铈金属粉料为原料，按照化学式Y_xCe_1-xO_2-0.5x，0.2≤x≤0.8，配比钇、铈元素的原子个数，通过拼接、镶嵌方法制得具有区域组份性质的金属靶材；

b.金属基底的清洗和固定：依序通过丙酮溶液、酒精溶液对金属基底进行超声波清洗，以除去粘附在金属基底表面的油污；将洗净的金属基底固定在直流反应溅射腔体内；

c.气路清洗：对直流反应溅射腔体的气路进行清洗，以出去气路中残留的气体和混入的空气；

d.直流反应溅射腔体的气压调制：对直流反应溅射腔体抽真空，直至背底真空达到10^-5Pa或以下；通入体积比为Ar∶H₂＝19∶1的混合气体，氩气和氢气的纯度体积百分比均在99.999％以上，直至直流反应溅射腔体压强达到1～10Pa；

e.预溅射：将直流反应溅射腔体升温至850℃，打开直流溅射电源进行预溅射，调整功率至50～250W，进行预溅射，时间20～120min；

f.正式溅射：打开水汽气路，调节水分压至5×10^-3～5×10^-2Pa，正式溅射，最终得到Y_xCe_1-xO_2-0.5x氧化物缓冲层。