[发明专利]一种用于硅抛光和清洗的溶液

权利要求书

1.一种用于硅抛光和清洗的溶液，其包含：水和至少一种化合物。

2.如权利要求1所述溶液，其特征在于，所述化合物选自胍类或含有胍基的化合物、酰胺类或含有酰胺基的化合物、唑类或含有唑基的化合物和脲类或含有脲基的化合物中的一种或多种。

3.如权利要求2所述溶液，其特征在于，所述胍类或含有胍基的化合物选自胍，二甲双胍、苯乙双胍、吗啉呱、1，1’-己基双[5-(对氯苯基)双胍]和聚六亚甲基双胍中的一种或多种以及上述化合物的酸加成盐中的一种或多种。

4.如权利要求2所述溶液，其特征在于，所述酰胺类或含有酰胺基的化合物选自偶氮二甲酰胺、1，6-己内酰胺和N，N’-亚甲基双丙烯酰胺中的一种或多种。

5.如权利要求2所述溶液，其特征在于，所述的唑类或含有唑基的化合物选自苯并三氮唑、1，2，4-三氮唑、3-氨基-1，2，4-三氮唑、5-羧基-3-氨基1，2，4-三氮唑和5-氨基四氮唑中的一种或多种。

6.如权利要求2所述溶液，其特征在于，所述脲类或含有脲基的化合物选自缩二脲、羟甲基脲和L-脲基丙胺酸中的一种或多种。

7.如权利要求1所述溶液，其特征在于，所述化合物为分子中同时含有胍官能团、唑官能团、脲官能团、以及酰胺官能团中至少两种以上官能团的化合物。

8.如权利要求7所述溶液，其特征在于，所述化合物选自(E)-1-(2-氯-1，3-噻唑-5-基甲基)-3-甲基-2-硝基胍、N′-甲基-N″-(2-(((5-甲基-1H-咪唑-4-基)甲基)硫代)乙基)-N-氰基胍盐酸、二苯酮胍甲酯、2，4-二氨基-6-甲基-1，3，5-三嗪中的一种或多种。

9.如权利要求1所述溶液，其特征在于，所述化合物在溶液中的总含量为0.001～30wt％或上限为各化合物在水溶液中的最大溶解度。

10.如权利要求1所述溶液，其特征在于，所述溶液进一步含有金属离子的络合剂和/或硅的抑制剂。

11.如权利要求10所述溶液，其特征在于，所述金属离子的络合剂选自乙二胺四乙酸、草酸、柠檬酸和丁二酸中的一种或多种；所述硅的抑制剂选自聚乙二醇、吐温和季胺盐中的一种或多种。