[发明专利]光刻机工件台平衡定位系统

权利要求书

1.一种光刻机工件台平衡定位系统，包括：

光刻机框架；

底座，固定于所述光刻机框架上，所述底座为矩形；

第一平衡质量块，通过气浮轴承和所述光刻机框架相连；

两个第二补偿模块，分别放置于所述底座的第二侧边和第四侧边上，所述第二侧边和所述第四侧边平行，所述第二侧边和所述第一侧边垂直；

第二平衡质量块，和所述第二侧边上的第二补偿模块相连；

其特征在于所述平衡定位系统还包括至少一个力矩消除器，所述力矩消除器都位于所述底座的侧边上，所述力矩消除器包括：

力矩消除器底座，和所述第一平衡质量块刚性相连；

力矩消除器电机动子，和所述力矩消除器底座刚性连接；

力矩消除器平衡质量块，通过垂向气浮轴承和侧向气浮轴承和所述力矩消除器底座相连。

2.根据权利要求1所述一种光刻机工件台平衡定位系统，其特征在于所述力矩消除器的数量为两个，且分别位于所述底座的两个对角。

3.根据权利要求1所述一种光刻机工件台平衡定位系统，其特征在于所述光刻机工件台平衡定位系统还包括：

第一补偿模块，放置于所述底座的第一侧边上；

两个第二电机定子，分别位于所述底座的第二侧边和第四侧边上，且和两侧边上相对应的第二补偿模块相连；

两个第二电机动子，分别位于所述底座的第二侧边和第四侧边上，且紧挨两侧边上相对应的两个所述第二电机定子；

第一电机定子，位于所述第一平衡质量块之上，且所述第一电机定子两端和两个所述第二电机动子相连；

第一导轨，位于所述第一电机定子上；

第二导轨，和所述第一平衡质量块通过螺钉刚性相连；

第一滑块，位于所述第一导轨上，且通过气浮轴承和所述第一导轨相连；

曝光台，放置于所述第一滑块上；

长条镜，位于所述第一滑块上，放置于所述曝光台的一侧。

4.根据权利要求1或3所述一种光刻机工件台平衡定位系统，其特征在于所述第一平衡质量块通过垂向气浮轴承和侧向气浮轴承和所述光刻机框架相连。

5.根据权利要求3所述一种光刻机工件台平衡定位系统，其特征在于所述第一滑块通过垂向气浮轴承和侧向气浮轴承和所述第一导轨相连。

6.根据权利要求3所述一种光刻机工件台平衡定位系统，其特征在于所述第一补偿模块包括：

第一补偿电机支架；

第一补偿电机定子，位于所述第一补偿电机支架上；

第一补偿电机动子，位于所述第一补偿电机定子之上。

7.根据权利要求6所述一种光刻机工件台平衡定位系统，其特征在于所述第一补偿电机动子和所述第一平衡质量块刚性相连。

8.根据权利要求6所述一种光刻机工件台平衡定位系统，其特征在于所述第一补偿电机支架通过螺钉和所述光刻机框架相连。

9.根据权利要求3所述一种光刻机工件台平衡定位系统，其特征在于所述第二补偿模块包括：

第二补偿电机支架；

第二补偿电机定子，位于所述第二补偿电机支架上；

第二补偿电机动子，位于所述第二补偿电机定子之上。

10.根据权利要求9所述一种光刻机工件台平衡定位系统，其特征在于所述第二补偿电机动子和所述第二平衡质量块刚性相连。

11.根据权利要求9所述一种光刻机工件台平衡定位系统，其特征在于所述第二补偿电机支架通过螺钉和所述光刻机框架相连。