[发明专利]掺锆氧化钇基透明陶瓷及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910055338.6 申请日: 2009-07-24
公开(公告)号: CN101665356A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 侯肖瑞;周圣明;李文杰;林辉;滕浩 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: C04B35/505 分类号: C04B35/505;C04B35/622
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 氧化钇 透明 陶瓷 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及透明陶瓷,特别是一种掺锆氧化钇基透明陶瓷及其制备方法。

背景技术

氧化钇(Y2O3)属立方晶系,具有稳定性好、光学透明区域宽、热导率高等特点,很早就被认为是优秀的固体激光基质材料。近年添加Nd3+、Eu3+、Yb3+等稀土元素的Y2O3透明陶瓷已成为固体激光器工作物质的研究热点。然而,由于其熔点高达2430℃,并且在2280℃附近有相变并伴随体积变化,使得单晶生长困难。采用陶瓷工艺制备透明Y2O3陶瓷,不但容易制备、成本低、可制得大尺寸制品,而且可以实现高浓度掺杂、易制备多层和多功能陶瓷结构;并且透明陶瓷中稀土离子的掺杂浓度不受分凝系数的制约,可以实现高浓度掺杂。称为Yttralox的Y2O3透明陶瓷是由美国通用电气公司首先研制成功的,是以高纯Y2O3为原料,以ThO2为添加剂,在2170℃下常压烧结制得。美国专利3,873,657介绍了一种用0.1%-0.8mol%的BeO为添加剂的Y2O3透明陶瓷,其烧结温度为2000℃。我国专利ZL200410025311.x介绍了一种用碳酸氢铵和氨水作复合沉淀剂制备Y2O3粉,所得的粉体在1300℃-1800℃氢气气氛烧结6小时制备Y2O3透明陶瓷材料。从上述可知,国外制备Y2O3透明陶瓷大多采用有放射性或有毒的ThO2或BeO做添加剂来降低烧结温度,给制备带来很多困难;国内主要是采用化学共沉淀方法制备Y2O3粉体,然后烧结陶瓷,由于制备过程很长时间暴露在空气中,容易引入较多杂质,影响陶瓷的透明度。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掺锆氧化钇基透明陶瓷及其制备方法。该陶瓷具有较高的透明度和致密性。

本发明的技术解决方案如下:

一种掺锆氧化钇基透明陶瓷,其特点是该陶瓷的结构式为:

(Y1-x-yRexZry)2O3

其中:

Re为稀土元素,是Yb、Nd、Tm、Ho、Ce、Er、Pr、Eu之一,或是Yb分别与Ho、Ce、Er、Pr、Eu共掺的双元素;

x、y的取值范围是:0.00≤x≤0.10;0.001≤y≤0.05。

所述的掺锆氧化钇基透明陶瓷的制备方法,包括以下步骤:

①采用纯度大于99.99%的Y2O3、ZrO2和稀土氧化物的粉体为原料,选定x和y后,按化学结构式(Y1-x-yRexZry)2O3配置粉体,将上述粉料以无水乙醇为介质球磨,混合均匀;

②烘干后不添加任何粘结剂在10~30MPa压力下,通过成型模具压制成所需尺寸大小的陶瓷生坯片,随后用200MPa或以上的等静压冷压成压片;

③将所述的压片在800℃预烧4小时后,然后放入真空烧结炉中于1750~2150℃进行真空烧结3~30小时,获得致密的(Y1-x-yRexZry)2O3透明陶瓷。

实验表明本发明具有以下优点:

1、可以制得接近氧化钇单晶透过率的高质量透明陶瓷;

2、ZrO2的熔点为2715℃,在晶界生成高温固溶体,抑制晶界迁移,阻止晶粒异常长大,有效地加速气孔排除;

3、Zr4+离子取代Y3+离子,可以形成Y3+离子空位,增加缺陷浓度,进一步促进烧结。

4、在压制陶瓷生坯片过程中没有添加任何粘结剂,避免在烧结过程中由于粘结剂去除而形成气孔,利于透明性能的提高。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910055338.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top