[发明专利]掺锆氧化钇基透明陶瓷及其制备方法无效
申请号: | 200910055338.6 | 申请日: | 2009-07-24 |
公开(公告)号: | CN101665356A | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
发明(设计)人: | 侯肖瑞;周圣明;李文杰;林辉;滕浩 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | C04B35/505 | 分类号: | C04B35/505;C04B35/622 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化钇 透明 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及透明陶瓷,特别是一种掺锆氧化钇基透明陶瓷及其制备方法。
背景技术
氧化钇(Y2O3)属立方晶系,具有稳定性好、光学透明区域宽、热导率高等特点,很早就被认为是优秀的固体激光基质材料。近年添加Nd3+、Eu3+、Yb3+等稀土元素的Y2O3透明陶瓷已成为固体激光器工作物质的研究热点。然而,由于其熔点高达2430℃,并且在2280℃附近有相变并伴随体积变化,使得单晶生长困难。采用陶瓷工艺制备透明Y2O3陶瓷,不但容易制备、成本低、可制得大尺寸制品,而且可以实现高浓度掺杂、易制备多层和多功能陶瓷结构;并且透明陶瓷中稀土离子的掺杂浓度不受分凝系数的制约,可以实现高浓度掺杂。称为Yttralox的Y2O3透明陶瓷是由美国通用电气公司首先研制成功的,是以高纯Y2O3为原料,以ThO2为添加剂,在2170℃下常压烧结制得。美国专利3,873,657介绍了一种用0.1%-0.8mol%的BeO为添加剂的Y2O3透明陶瓷,其烧结温度为2000℃。我国专利ZL200410025311.x介绍了一种用碳酸氢铵和氨水作复合沉淀剂制备Y2O3粉,所得的粉体在1300℃-1800℃氢气气氛烧结6小时制备Y2O3透明陶瓷材料。从上述可知,国外制备Y2O3透明陶瓷大多采用有放射性或有毒的ThO2或BeO做添加剂来降低烧结温度,给制备带来很多困难;国内主要是采用化学共沉淀方法制备Y2O3粉体,然后烧结陶瓷,由于制备过程很长时间暴露在空气中,容易引入较多杂质,影响陶瓷的透明度。
发明内容
本发明的目的在于提供一种掺锆氧化钇基透明陶瓷及其制备方法。该陶瓷具有较高的透明度和致密性。
本发明的技术解决方案如下:
一种掺锆氧化钇基透明陶瓷,其特点是该陶瓷的结构式为:
(Y1-x-yRexZry)2O3,
其中:
Re为稀土元素,是Yb、Nd、Tm、Ho、Ce、Er、Pr、Eu之一,或是Yb分别与Ho、Ce、Er、Pr、Eu共掺的双元素;
x、y的取值范围是:0.00≤x≤0.10;0.001≤y≤0.05。
所述的掺锆氧化钇基透明陶瓷的制备方法,包括以下步骤:
①采用纯度大于99.99%的Y2O3、ZrO2和稀土氧化物的粉体为原料,选定x和y后,按化学结构式(Y1-x-yRexZry)2O3配置粉体,将上述粉料以无水乙醇为介质球磨,混合均匀;
②烘干后不添加任何粘结剂在10~30MPa压力下,通过成型模具压制成所需尺寸大小的陶瓷生坯片,随后用200MPa或以上的等静压冷压成压片;
③将所述的压片在800℃预烧4小时后,然后放入真空烧结炉中于1750~2150℃进行真空烧结3~30小时,获得致密的(Y1-x-yRexZry)2O3透明陶瓷。
实验表明本发明具有以下优点:
1、可以制得接近氧化钇单晶透过率的高质量透明陶瓷;
2、ZrO2的熔点为2715℃,在晶界生成高温固溶体,抑制晶界迁移,阻止晶粒异常长大,有效地加速气孔排除;
3、Zr4+离子取代Y3+离子,可以形成Y3+离子空位,增加缺陷浓度,进一步促进烧结。
4、在压制陶瓷生坯片过程中没有添加任何粘结剂,避免在烧结过程中由于粘结剂去除而形成气孔,利于透明性能的提高。
附图说明
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