[发明专利]一种基于纳米晶的非挥发性存储器无效

专利信息
申请号: 200910055389.9 申请日: 2009-07-24
公开(公告)号: CN101599493A 公开(公告)日: 2009-12-09
发明(设计)人: 顾靖;张雄;张博;曹子贵;孔蔚然;王永;杨潇楠 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;G11C16/10;G11C16/14;G11C16/26
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 郑 玮
地址: 201203上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 纳米 挥发性 存储器
【权利要求书】:

1.一种基于纳米晶的非挥发性存储器,其特征在于,包括衬底上定义的一个有源区,所述有源区上方横跨配置多条用于选择地址的字线、以及用于选中读取单元的选择栅,所述有源区上还设置多条用于读取数据的位线,所述位线与所述字线垂直排列,每条字线和有源区之间配置独立的纳米晶。

2.根据权利要求1所述的基于纳米晶的非挥发性存储器,其特征在于,所述选择栅位于所述字线的一侧,所述位线位于所述字线的另一侧。

3.一种基于纳米晶的非挥发性存储器数据写入的方法,其特征在于,包括:

选中需要写入数据的单元;

在衬底和字线之间的高压作用下,通过隧穿效应电子从衬底中被拉入所述选中的数据单元中的纳米晶。

4.根据权利要求3所述的基于纳米晶的非挥发性存储器数据写入的方法,其特征在于,所述选中需要写入数据的单元具体方式为:

在衬底施加一个-4V至-10V中任一负电压;

在一位线上加载一个-4V至-10V中任一负电压,另一位线上加载一个0V至4V中任一正电压;

在一字线上加载一个+4V至+10V中任一正电压,在另一字线上加载一个-1V至-3V中任一负电压;

在两个选择栅上均加载-4V至-10V中任一负电压。

5.一种基于纳米晶的非挥发性存储器数据擦除的方法,其特征在于,包括:

选中需要擦除数据的单元;

在字线和衬底之间的高压作用下,使存储在纳米晶中的电子隧穿回到衬底中。

6.根据权利要求5所述的基于纳米晶的非挥发性存储器数据擦除的方法,其特征在于,所述选中需要擦除数据的单元具体方式为:

在衬底施加一个+4V至+10V中任一正电压;

在两位线上均加载一个+4V至+10V中任一正电压;

在一字线上加载一个-4V至-10V中任一负电压,在另一字线上加载一个+4V至+10V中任一正电压;

在两个选择栅上均加载+4V至+10V中任一正电压。

7一种基于纳米晶的非挥发性存储器数据读取的方法,其特征在于,包括:

选中需要读取数据的单元;

通过读取位线输出的感应电流,读取选中单元中的数据。

8.根据权利要求7所述的基于纳米晶的非挥发性存储器数据读取的方法,其特征在于,所述选中需要读取数据的单元具体方式为:

衬底接地;

在一位线上加载一个+1V至+3V中任一正电压,另一位线接地;

在一字线上加载一个+1V至+3V中任一正电压,另一字线接地;

在一选择栅加载一个+1V至+3V中任一正电压,另一选择栅接地。

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