[发明专利]专利技术发展趋势分析系统及分析方法无效
申请号: | 200910055672.1 | 申请日: | 2009-07-30 |
公开(公告)号: | CN101989268A | 公开(公告)日: | 2011-03-23 |
发明(设计)人: | 唐向东;魏国柱 | 申请(专利权)人: | 上海汉光知识产权数据科技有限公司 |
主分类号: | G06F17/30 | 分类号: | G06F17/30 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 专利技术 发展趋势 分析 系统 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种专利分析中的专利技术发展趋势分析系统及分析方法。
背景技术
在目前专利分析中,专利历年申请量趋势分析已经成为分析的一个重要指标,其从宏观上反映了专利申请量的历年发展变化情况,进而反映专利申请的发展趋势。然而,研发人员等更加关注的是专利技术的发展变化情况,甚至于某一领域某一具体技术的发展情况,而仅仅专利申请量已经无法满足这种需求。
发明内容
本发明的目的就是提供专一种专利分析中专利技术发展趋势分析系统,其通过曲线图直观准确地反映专利技术的历年发展趋势情况。
鉴于以上目的,本发明提供一种专利分析中专利技术发展趋势分析系统,基于专利数据库和显示器终端,所述分析系统包括用于从专利数据库中采集分析数据建立专利分析专题库的专题建立模块,用于对专利分析专题库中的专利文献按技术进行分类的技术分类模块,用于选择专利技术分类的技术分类选择模块,用于按照选择的技术分类显示该分类下历年专利数量曲线图的图像显示模块。
进一步地,所述技术分类选择模块用于选择一个或同时选择多个技术分类,选择多个技术分类时,在一副图中同时显示所选择的各个技术分类历年专利申请数量或公开数量曲线图,便于进行比较分析。
进一步地,所述图像显示模块还包括一分析日期类型选择单元,用于选择按申请时间或公开时间显示选定技术分类下历年专利申请数量曲线图或历年专利公开数量曲线图,进一步地所述图像显示模块还包括曲线图显示控制单元,用于调节选定技术分类下历年专利申请数量曲线图或历年专利公开数量曲线图的颜色和形状比例,使得多个技术分类曲线同时显示在一副图中时,更加直观和清晰。
进一步地,所述专利数据库为单机版数据库或网络版数据库。
本发明还提供一种专利技术发展趋势的分析方法,其特征在于包含以下步骤:
1)根据预设技术主题在各国专利文献数据库中通过检索建立一专利数据库;
2)采用专题建立模块在专利数据库中检索专利数据库中专利,建立专利分析专题库;
3)采用技术分类模块对专利分析专题库中的专利文献按技术进行分类;
4)通过技术选择模块选择分析的技术分类;
5)通过图像显示模块显示所选技术分类下历年专利申请数量或公开数量曲线图。
在建立专利分析专题时,按时间段、申请人、发明人或区域在专利数据库中进行检索后建立相应的专利分析专题库,从而实现分析的多样化。
对专利分析专题库中的专利文献按技术进行分类是采用专利标引的方式进行。专利标引是目前专利技术分析常用的手段,是指通过阅读专利,对专利进行技术分类。
由于采用了以上的分析系统和方法,可直观准确地显示一特定技术领域内具体专利技术的历年发展趋势变化,并且可以细化到显示一时间段、一申请人、一发明人或一区域下专利技术发展趋势,以满足技术人员对于技术分析的需求。
以下结合附图和实施例进一步说明本发明。
附图说明
图1为本发明所述分析系统功能模块图。
图2为本发明所述分析方法实施步骤图。
具体实施方式
如图1所示的分析系统整体框架图。该系统基于一专利数据库10,多个显示终端,如终端1,终端2……终端N,将在各国的专利文献数据库中检索获得的专利数据转换成统一格式存贮在该专利数据库中,库中专利数据至少包括专利著录项目、专利摘要和专利权利要求。
所述分析系统20包括用于从专利数据库10中采集分析数据建立专利分析专题库的专题建立模块201;用于对专利分析专题库中的专利文献按技术进行分类的技术分类模块202;用于选择专利技术分类的技术分类选择模块203,该技术分类选择模块用于选择一个或同时选择多个技术分类;用于按照选择的技术分类显示该分类下历年专利数量曲线图的图像显示模块204,该图像显示模块还包括一分析日期类型选择单元2041,用于选择按申请时间或公开时间显示选定技术分类下历年专利申请数量曲线图或历年专利公开数量曲线图,进一步地所述图像显示模块还包括曲线图显示控制单元2042,用于调节选定技术分类下历年专利申请数量曲线图或历年专利公开数量曲线图的颜色和形状比例,使得多个技术分类曲线同时显示在一副图中时,更加直观和清晰。
图2为与本发明系统相应的分析方法的实施步骤图,包括以下步骤:
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