[发明专利]测量激光频率变化的装置和方法无效
申请号: | 200910056645.6 | 申请日: | 2009-08-19 |
公开(公告)号: | CN101629851A | 公开(公告)日: | 2010-01-20 |
发明(设计)人: | 王利娟;刘立人;栾竹;孙建锋;周煜;闫爱民;戴恩文;许楠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01J11/00 | 分类号: | G01J11/00 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 激光 频率 变化 装置 方法 | ||
1.一种测量激光频率变化的装置,其特征在于该装置由输入平行平板(1)、相位延迟平行平板(2)、第一剪切平板(3)、第二剪切平板(4)、输出平行平板(5)、光电探测器线性阵列(6)和信号处理系统(7)所组成,其位置关系是:所述的输入平行平板(1)与所述的输出平行平板(5)的材料与厚度均相同且平行放置,在所述的输入平行平板(1)的第一介质面(101)的反射光路中设置所述的相位延迟平行平板(2)和第一剪切平板(3),在所述的输入平行平板(1)的第二介质面(102)的反射光路中设置第二剪切平板(4),所述的第一剪切平板(3)和第二剪切平板(4)的材料与厚度均相同,所述的第一剪切平板(3)和第二剪切平板(4)倾斜方向相反地在所述的第一剪切平板(3)和第二剪切平板(4)的公共轴的两边对称放置,在所述输出平行平板(5)的出射光路中设置所述的光电探测器线性阵列(6),该光电探测器线性阵列(6)由性能参数相同的第一光电探测器(601)、第二光电探测器(602)、第三光电探测器(603)、第四光电探测器(604)和第五光电探测器(605)等间距直线排列形成,该光电探测器线性阵列(6)的输出端与所述信号处理系统(7)的输入端相连。
2.根据权利要求1所述的测量激光频率变化的装置,其特征在于所述的相位延迟平行平板(2)可改设置在所述输入平行平板(1)的第二介质面(102)的反射光路中。
3.根据权利要求1所述的测量激光频率变化的装置,其特征在于所述的第一剪切平板(3)和第二剪切平板(4)之间具有使之绕所述的公共轴同时反向旋转的机构。
4.根据权利要求1所述的测量激光频率变化的装置,其特征在于所述的信号处理系统(7)由具有A/D转换功能的多通道高速数据采集卡和具有相应数据处理、分析软件的计算机所构成,或是由具有相应处理功能的信号处理电路与微处理器所构成。
5.一种利用如权利要求1至4任一项所述的测量激光频率变化的装置测量激光频率变化的方法,其特征在于包括下列步骤:
①将所述的测量激光频率变化的装置设置后,调整光路,使待测激光入射到所述的输入平行平板(1)的第一介质表面(101)的入射角为45°;
②启动所述的测量激光频率变化的装置开始测量,所述光电探测器线性阵列(6)的第一光电探测器(601)、第二光电探测器(602)、第三光电探测器(603)、第四光电探测器(604)和第五光电探测器(605)分别记录的光强为I1、I2、I3、I4和I5并转变为相应的电信号,该电信号输入所述的信号处理系统(7),经A/D转换为相应的数字信号;
③所述的信号处理系统(7)进行以下公式运算,获得激光频率变化值Δf:
式中:n为相位延迟平行平板(2)的折射率,L为相位延迟平行平板(2)的厚度,c为光速。
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