[发明专利]一种材料表面制备壳聚糖/蛋白质复合微图形的方法无效

专利信息
申请号: 200910058128.2 申请日: 2009-01-14
公开(公告)号: CN101461965A 公开(公告)日: 2009-06-24
发明(设计)人: 鲁雄;谢佳;周先礼;姜丽丽;张红平;屈树新;冯波;翁杰;汪建新 申请(专利权)人: 西南交通大学
主分类号: A61L31/04 分类号: A61L31/04;B41C3/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610031四川省成都市*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 材料 表面 制备 聚糖 蛋白质 复合 图形 方法
【权利要求书】:

1.一种材料表面制备壳聚糖/蛋白质复合微图形的方法,以壳聚糖 CS和牛血清白蛋白BSA为原料采用微转移模塑法使CS和BSA两种 物质在硅表面均匀吸附得到复合微图形,包括如下步骤:

(1)硅基片的制备:将纯硅片采用干氧氧化处理,以获得表面 有均匀致密氧化层的硅基片;所述表面均匀致密氧化层的硅基片经清 洗后再经碱处理,最后用蒸馏水清洗干净,干燥后得到表面充满羟基 的硅片;

(2)溶液的配制:CS溶于CH3COOH中,配制成2mg/ml CS 的CH3COOH溶液;BSA溶于pH值为6.6的磷酸盐缓冲液中,配 制成2mg/ml的BSA溶液;

(3)弹性印章制备:按质量比10∶1的比例充分混合聚二甲基硅 氧烷PDMS与硅橡胶固化剂,所得混合物浇铸在表面具有微米尺寸 沟槽结构的硅模板上;于80℃下固化后将固化物从硅模板上剥离, 经亲水性改善处理后再经蒸馏水清洗、干燥得到有沟槽表面结构的弹 性印章,所述亲水性改善处理采用1mol/L盐酸溶液中浸泡12小时 处理;

(4)微图形的拓制:分别用(2)得到的CS溶液和BSA溶液分 别滴加在二个(3)得到的有沟槽表面结构的弹性印章上,静置并刮 除表面多余的溶液,得到二个分别具有CS微图形和BSA微图形的弹 性印章,即完成微图形的分别拓制;

(5)将(4)得到的具有CS微图形的弹性印章反扣在(1)步 骤制得的硅基片表面,保持二者的完全紧密接触,于20℃下干燥后 剥离弹性印章,再于0.0125mol/L的NaOH中浸泡1min,以中和CS 的酸性;硅基片表面吸附留下CS的沟槽微图形;

(6)将(4)得到的具有BSA微图形的弹性印章反扣在(5) 得到的具有CS的沟槽微图形的硅基片上,在已吸附有CS的硅基片 表面,交叉地吸附上BSA微图形,得到材料表面形状规则的壳聚糖/ 蛋白质复合微图形。

2.根据权利要求1所述的一种材料表面制备壳聚糖/蛋白质复合微图 形的方法,其特征在于,所述纯硅片采用干氧氧化处理,采用在1000℃ 下烧结4小时。

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