[发明专利]CsI(T1)晶体薄膜直接集成CCD的X射线阵列探测器无效

专利信息
申请号: 200910060113.X 申请日: 2009-07-27
公开(公告)号: CN101968546A 公开(公告)日: 2011-02-09
发明(设计)人: 刘爽;张佳宁;钟智勇 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G01T1/202 分类号: G01T1/202
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610054 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: csi t1 晶体 薄膜 直接 集成 ccd 射线 阵列 探测器
【权利要求书】:

1.基于薄层CsI(Tl)晶体直接耦合CCD的X射线阵列探测器,其特征是它包括CCD面元(1)、荧光增透膜(2)、CsI(Tl)晶体单元(3)、晶柱空气间隙(4)、顶层Al保护层(5)、侧面Al隔离层(6)、电荷转移通道(7);X射线从顶层Al保护层(5)入射,进入CsI(Tl)晶体单元(3),转换成为荧光;荧光在顶层Al保护层(5)、晶柱空气间隙(4)、侧面Al隔离层(6)的反射作用下,传输到荧光增透膜(2)上;荧光透过荧光增透膜(2),被CCD面元(1)感光,产生光生电荷包;光生电荷包通过电荷转移通道(7)转移输出。

2.按权利要求1所述基于薄层CsI(Tl)晶体直接耦合CCD的X射线阵列探测器,其特征是CsI(Tl)晶体单元(3)与CCD面元(1)大小、尺寸一致,通过荧光反射直接耦合。无需光纤锥以及附加保护器件,简化结构,提高集成度。

3.按权利要求1所述基于薄层CsI(Tl)晶体直接耦合CCD的X射线阵列探测器,其特征是在CCD面元(1)与CsI(Tl)晶体单元(3)之间加入荧光增透膜(2),提高转换效率。

4.按权利要求1所述基于薄层CsI(Tl)晶体直接耦合CCD的X射线阵列探测器,其特征是顶层Al保护层(5)控制X-ray辐射剂量,保护下部器件,同时反射顶部的回射荧光。

5.按权利要求1所述基于薄层CsI(Tl)晶体直接耦合CCD的X射线阵列探测器,其特征是晶柱空气间隙(4)与侧面Al隔离层(6)对荧光进行反射与隔离,减小窜扰噪声,增大空间分辨率。

6.按权利要求1所述基于薄层CsI(Tl)晶体直接耦合CCD的X射线阵列探测器,其特征是荧光增透膜(2)、CsI(Tl)晶体单元(3)、顶层Al保护层(5)、侧面Al隔离层(6)通过都通过蒸发沉积、光刻腐蚀、溅射工艺做在CCD面元(1)上。

7.按权利要求1所述基于薄层CsI(Tl)晶体直接耦合CCD的X射线阵列探测器,其特征是CsI(Tl)晶体单元(3)的厚度为70μm~100μm。

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