[发明专利]在聚碳酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯复合板上的减反射膜及制备方法

权利要求书

1.在聚碳酸酯聚甲基丙烯酸甲酯复合板上的减反射膜，其特征是，减反射膜由二层组成，从靠基材开始依次是：氟化镁/三氧化二铝；一层厚度为80-120nm的MgF₂薄膜；第二层厚度为35-45nm的三氧化二铝薄膜。

2.权利要求1的在聚碳酸酯聚甲基丙烯酸甲酯复合板材上的减反射膜制备方法，其特征是步骤如下：

1)将聚碳酸酯聚甲基丙烯酸甲酯复合板材进行真空除湿状态下烘烤，真空度为1×10^-2Torr-1×10^-3Torr，温度60-70℃，连续持续时间1-3小时；

2)将烘烤后的聚碳酸酯聚甲基丙烯酸甲酯复合板材装入电子枪真空镀膜机内，先进行高真空抽气，同时工作温度为-120℃至-165℃的深冷低温机辅助抽气，将残留在片材表面的水分和材料出气彻底清除；

3)当真空度低于3×10^-5torr时，无阴极离子源打开，对材料表面进行清洁处理和表面活化，时间为60s-120s之间；

4)打开加热器加热，使真空室内温度保持在60-80℃；

5)关闭离子源后继续抽高真空，当到达低于3×10^-5torr时，先打开坩埚电子枪中的氟化镁坩埚加热至蒸发温度，蒸发出来的氟化镁沉积在基材表面，当氟化镁的沉积厚度达到设定值时，坩埚电子枪中的三氧化二铝坩埚加热，三氧化二铝的沉积厚度达到设定值时关闭电子枪，每一层沉积的同时应该打开离子源进行辅助；

6)在离子源对材料进行表面活化清洗时应该使用氧气，流量范围是：15-30sccm；在镀膜时进行离子辅助时氧气流量为10-20sccm；电子枪蒸发过程中通氧气，流量为10-15sccm。

3.如权利要求2的方法，其特征是在完成步骤6)镀膜后，基片架在真空状态下自动翻转，重复步骤3)-6)的镀膜工艺，完成双面镀减反膜。