[发明专利]无机溶胶模板法制备光催化TiO2纳米线无效
申请号: | 200910071035.3 | 申请日: | 2009-10-29 |
公开(公告)号: | CN101746820A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 季惠明;徐明霞;梁辉;李晓雷;袁东方;姜琳 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C01G23/053 | 分类号: | C01G23/053;B01J21/06;B01J35/02;B01J37/34;B01J37/02;B82B3/00 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 300072 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 无机 溶胶 模板 法制 光催化 tio sub 纳米 | ||
技术领域
本发明涉及一种具有光催化性能TiO2纳米线的制备方法,涉及环保领域,具体涉及无机溶胶模板法制备TiO2纳米线,制备出直径在纳米尺度的纳米线,该纳米线在可见光下具有高催化活性。
背景技术
在众多的纳米半导体光催化材料中,TiO2由于自身具有的良好的化学稳定性、低成本、无毒及可再生循环利用等特点而成为最具应用潜力的光催化剂之一。但TiO2的禁带较宽(Eg=3.2eV),只有在紫外光照射下才具有光催化作用,不能有效利用占太阳光能45%左右的可见光;而且TiO2光激发产生的电子和空穴易复合,光量子效率很低。因此,需要通过材料形态与组成设计等方面来提高TiO2的光催化活性。
TiO2在形态方面通过制备出纳米粉体、纳米线(管)及纳米薄膜等来提高材料表面积,从而提高对光的吸收率;在组成方面主要主要通过离子掺杂、贵金属修饰、染料敏化、复合半导体等方法来使TiO2光催化剂的光谱响应范围得到了扩展,提高了对可见光的利用率,同时,在TiO2晶格中引入缺陷或改变结晶状态,抑制电子和空穴的复合,一定程度上提高了TiO2在可见光下的光催化活性。目前对TiO2改性方面的大多报道都针对纳米粉体和薄膜,光催化效果并没有达到预期效果。纳米线具有更大的比表面积和更高的表面能,具有更加优异的性能,通过对TiO2纳米线改性有望大幅度提高其在可见光下的光催化性能。
另外,目前所应用的TiO2基光催化剂,大多采用昂贵的有机钛盐和有机络合物等为原料来获得,其制备成本高,得到的溶胶呈强酸性,需要经过高温热处理排除有机物,造成环境污染。
发明内容
本发明的目的是提供一种制备具有可见光活性的TiO2纳米线的方法,该方法以低价无机盐为原料,应用多孔氧化铝模板法,以溶胶沉积工艺制备出直径在纳米尺度的纳米线,提供了一种制备方法简单、可见光催化活性高的TiO2纳米线的方法,克服了现有技术的不足之处。
本发明通过下述技术方案予以实现。
无机溶胶模板法制备TiO2纳米线,其步骤如下:
(1)以无机盐TiOSO4为原料,先将其配制成0.2-0.4mol/L的水溶液待用;以3.0mol/L的氨水溶液作沉淀剂,30%H2O2溶液作为胶溶剂,将二者依次滴加到TiOSO4溶液中,制备出浓度为0.2-0.4mol/L的黄色透明无机溶胶;以2℃/min的速率升温至80-130℃,进行加热和回流,持续10-16h;自然冷却至室温,得到回流的溶胶(RS);
(2)利用由二次阳极氧化法制得的多孔氧化铝模板,制备TiO2纳米线阵列。
所述利用二次阳极氧化法得到生长在氧化铝模板上的TiO2纳米线阵列的方法是:采用溶胶-电泳沉积法制备TiO2纳米线;以氧化铝模板为阳极,Pt-Ti网为阴极,施加2-5V电压进行溶胶-电泳沉积,经过5-10min时间后,将模板取出,在空气中干燥;然后500℃下煅烧0.5h,自然冷却后得到无机TiO2/Al2O3纳米线复合体。
也可以采用下面的利用二次阳极氧化法得到生长在氧化铝模板上的TiO2纳米线阵列的方法:采用溶胶-凝胶真空法制备TiO2纳米线;先将氧化铝模板浸渍在溶胶中,然后用真空泵抽10min,观察到模板周围再无气泡冒出后,撤除外部负压,使模板在氧化钛溶胶中浸渍20min,取出后在潮湿的空气中自然干燥,得到无机TiO2/Al2O3纳米线复合体。
本发明中在已制得的RS溶胶中加入重量百分比1.5%的Cr、1.0%的W或1.5%的Fe金属离子掺杂物质溶液,搅拌,待溶胶稳定后,得掺杂的RS溶胶。
性能测试:
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