[发明专利]应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法

权利要求书

1.一种应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，其特征在于应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法如下：在射流压力为0.1MPa～10MPa、喷射速度为10～200m/s的条件下将纳米胶体喷射于元件表面；其中所述的纳米胶体的动力粘度为0.001～0.02N·s/m²、pH值为8～12；所述的纳米胶体按重量份数由0.5～15份的纳米颗粒、85～99份去离子水、0.1～0.2份pH值调节剂、0.2～1份分散剂和0.05-0.2份聚丙烯酸钠制成，其中所述的纳米颗粒的粒径为50nm以下。

2.根据权利要求1所述的应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，其特征在于所述的纳米颗粒为无机纳米颗粒。

3.根据权利要求2所述的应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，其特征在于所述的无机纳米颗粒为纳米二氧化硅颗粒、纳米二氧化钛颗粒、纳米氧化铈颗粒或纳米氧化铝颗粒。

4.根据权利要求1所述的应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，其特征在于所述的pH值调节剂为AMP 95pH值调节剂或AMP 96pH值调节剂。

5.根据权利要求1所述的应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，其特征在于所述的分散剂为聚羧酸钠盐型分散剂或聚丙烯酸盐型分散剂。

6.根据权利要求1所述的应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，其特征在于所述纳米胶体的制备方法如下：按重量份数首先将85～99份的去离子水、0.1～0.2份的pH值调节剂、0.2～1份的分散剂和0.05～0.2份的聚丙烯酸钠混合制得pH值基液，然后以10～60转/分钟的搅拌速度将0.5～15份的纳米颗粒加入到pH值基液中制得混合液，再以120～300转/分钟的搅拌速度将混合液搅拌5～20分钟后在频率为10～40KHz的条件下将混合液超声波分散5～30分钟，即得纳米胶体。

7.根据权利要求6所述的应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，其特征在于所述的纳米颗粒为无机纳米颗粒。

8.根据权利要求7所述的应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，其特征在于所述的无机纳米颗粒为纳米二氧化硅颗粒、纳米二氧化钛颗粒、纳米氧化铈颗粒或纳米氧化铝颗粒。

9.根据权利要求6所述的应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，其特征在于所述的pH值调节剂为AMP 95pH值调节剂或AMP 96pH值调节剂。