[发明专利]一种光学用聚酯薄膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910074857.7 申请日: 2009-07-10
公开(公告)号: CN101596802A 公开(公告)日: 2009-12-09
发明(设计)人: 熊跃斌;王旭亮;孙金峰 申请(专利权)人: 中国乐凯胶片集团公司;合肥乐凯科技产业有限公司;保定乐凯薄膜有限责任公司
主分类号: B32B27/20 分类号: B32B27/20;B32B27/36;B32B33/00;B29C69/00;B29C47/92;B29C47/78
代理公司: 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 代理人: 郭绍华;李羡民
地址: 071054*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 聚酯 薄膜 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种光学用聚酯薄膜,它包含基膜,在基膜的至少一面上涂有底涂层,其特征在于,所述基膜中含有单一粒径的填料,底涂层中含有粘合剂和平均粒径不同的大小两种微粒的填料,大颗粒填料的平均粒径是小颗粒填料的平均粒径的2倍以上。

2.根据权利要求1所述薄膜,其特征在于,所述底涂层中的大颗粒填料和小颗粒填料的重量比小于1∶1。

3.根据权利要求2所述光学用聚酯薄膜,其特征在于,所述底涂层中的小颗粒填料的平均粒径为≤0.1μm。

4.根据权利要求3所述光学用聚酯薄膜,其特征在于,所述底涂层中的粘合剂是聚偏二氯乙烯树脂、聚丙烯酸酯树脂、聚氨酯树脂、聚酯树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂中的一种或几种。

5.根据权利要求4所述光学用聚酯薄膜,其特征在于,所述底涂层中的填料是二氧化硅、硫酸钡、碳酸钙、高岭土、三氧化二铝、二氧化钛、交联聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种或几种。

6.根据权利要求5所述光学用聚酯薄膜,其特征在于,所述基膜中的填料是二氧化硅、硫酸钡、碳酸钙、高岭土、三氧化二铝、二氧化钛、交联聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种或几种。

7.一种制备如权利要求1、2、3、4、5或6所述光学用聚酯薄膜的方法,其特征在于,它包括以下步骤:

a.将基膜原料送入相应挤出系统熔融挤出;

b.基膜熔体经模头在转动的冷却辊上形成无定型的铸塑厚片;

c.将冷却后的厚片预热后纵向拉伸3.0~3.8倍;

d.将底涂液涂在经纵向拉伸后的膜片的一个面或两个面上;

e.将涂好底层的膜片经预热后横向拉伸3.0~4.0倍;

f.将拉伸后的薄膜热定型,冷却后收卷,得到光学用聚酯薄膜。

8.根据权利要求7所述制备光学用聚酯薄膜方法,其特征在于,所述熔融挤出温度为260℃~300℃。

9.根据权利要求8所述光学用聚酯薄膜方法,其特征在于,所述热定型温度为180℃~250℃。

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