[发明专利]CMP抛光液供应系统无效
申请号: | 200910075364.5 | 申请日: | 2009-09-14 |
公开(公告)号: | CN101648365A | 公开(公告)日: | 2010-02-17 |
发明(设计)人: | 廖垂鑫;柳滨;陈威 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02;B24B37/04;B24B29/02;H01L21/304 |
代理公司: | 石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 董金国 |
地址: | 065201河北省三*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | cmp 抛光 供应 系统 | ||
1、一种CMP抛光液供应系统,其特征在于其包括抛光液存储罐(6)、设置在抛光液存储罐(6)内的由搅拌电机(3)和搅拌叶片(5)构成的搅拌装置、设置在抛光液存储罐(6)内的冷却液管(4)以及设置在抛光液存储罐(6)内的温度传感器(9),去离子水管(10)和抛光液管(11)通过三位三通电磁阀(1)、液体流量计(2)和抛光液存储罐(6)相连通。
2、根据权利要求1所述的CMP抛光液供应系统,其特征在于在抛光液存储罐(6)内的上端设置有上液位传感器(7)、在抛光液存储罐(6)内的下端设置有下液位传感器(8)。
3、根据权利要求1或2所述的CMP抛光液供应系统,其特征在于三位三通电磁阀(1)的一个入口接抛光液管(11),另一个入口接去离子水管(10),当三位三通电磁阀(1)处于中位时,三位三通电磁阀(1)关闭,当三位三通电磁阀(1)处于右位时,接通抛光液管(11);当三位三通电磁阀(1)处于左位时,接通去离子水管(10)。
4、根据权利要求1或2所述的CMP抛光液供应系统,其特征在于搅拌电机(3)设置在抛光液存储罐(6)中央的正上方,和搅拌电机(3)的传动轴相连接的搅拌叶片(5)设置在抛光液存储罐(6)液面以下。
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