[发明专利]背光源有效

专利信息
申请号: 200910077685.9 申请日: 2009-02-11
公开(公告)号: CN101799138A 公开(公告)日: 2010-08-11
发明(设计)人: 赵海玉 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: F21S8/00 分类号: F21S8/00;F21V23/00;F21V23/04;G09G3/36;G02F1/13357;F21Y113/02;F21Y101/02
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 刘芳
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 背光源
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示器技术领域,尤其涉及一种背光源。 

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display;以下简称:TFT-LCD)作为显示市场的一大主流已经在电视和电脑显示器等很多方面有广泛的应用。液晶显示面板是液晶显示器中重要的组成部分,主要包括彩膜基板、TFT阵列基板、液晶、封框胶和取向膜(PI膜)等。 

由于生产工艺不良液晶显示器会存在拖尾、反应速度慢和残像等缺点,其中残像对液晶显示器的品质有非常重要的影响。所谓残像是指液晶显示器在长时间显示同一个画面后,当画面切换到新的画面时,仍然会残留上一个画面图像的现象。长时间加载一定图画时,液晶面板内的杂质离子会沿着电场方向向上下基板移动,聚集在取向膜上产生内部电场,在更换新画面时,聚集于取向膜的杂质离子无法立刻离开取向膜,存在的残留直流电压使液晶显示器仍然保持原来的图像。现有技术中通过对背光源进行改善,例如通过紫外光线吸附层来减少因紫外光线照射而在液晶面板内产生的杂质离子,该种方式可以对避免液晶面板的残像起到积极作用。但经过以上处理的液晶显示器在室外使用时仍然会产生残像,将严重影响液晶显示器的显示品质。 

发明内容

本发明提供一种背光源,包括用于为所述背光源提供光线的灯组件,临近所述灯组件还包括用于提供紫外线的紫外灯组,在所述背光源外还设置有与所述紫外灯组连接的、并用于通过控制所述紫外灯组开启或关闭来平衡液晶面板内外两侧的紫外光的控制开关。 

本发明提供的背光源通过在临近背光源内灯组件位置处设置紫外灯组,可以根据液晶显示器的实际使用环境改变液晶面板内侧紫外光线的照射量,避免液晶显示器残像现象的产生。 

附图说明

图1为本发明侧光式背光源结构示意图; 

图2为本发明直下式背光源实施例一结构示意图; 

图3为本发明直下式背光源实施例二结构示意图; 

图4为本发明中紫外光线照射量不同时产生残像程度示意图。 

下面结合附图和具体实施例进一步说明本发明实施例的技术方案。 

具体实施方式

TFT-LCD残像的产生可以归结为以下两个因素:(1)液晶面板内存在杂质离子,主要与液晶面板中的材料有关,例如取向液、液晶、封框胶、隔垫物、电极等;(2)当有外加电场作用时液晶面板中的杂质离子会聚集到上下基板的取向膜,并且在电场撤销时不能迅速离开取向膜,该种情况可以通过材料、驱动、阵列设计等多种途径来改善。 

残像会极大的影响液晶显示器的品质,也是业界重点研究课题。液晶面板中杂质离子的存在是造成残像的重要原因,杂质离子产生的原因主要包括:液晶、取向膜和封框胶本身制备过程中含有的杂质;液晶、取向膜和封框胶相互作用后产生的杂质;以及液晶、取向膜和封框胶在使用过程中由于热或者光的影响造成降解或分解产生的杂质。针对第三种情况,紫外光是产生杂质的重要原因。当紫外光照射取向膜时,容易造成取向膜的降解。为了减小 这种影响,现有一般通过改善背光源的设计来减小背光源射出的紫外光。以冷阴极萤光灯管(Cold Cathode Fluorescent Lamp;简称:CCFL)光源为例,因为在灯管当中会产生紫外光,主要通过在CCFL灯管外壁、导光板或者反射板上涂敷紫外光吸收物质,达到降低背光源紫外光的目的。但是采用此种背光源结构的液晶面板,在户外使用时,仍然会产生残像,其原因是由于在户外,液晶面板直接接受太阳光的照射,室外紫外光强度很大,因此对液晶面板而言,彩膜侧受到的紫外光更强,因此便产生残像现象。 

本发明提供一种有效改善液晶显示器室外使用产生残像缺陷的解决方案,即在现有背光源中的灯组件临近位置设置紫外灯(UV灯),通过加大背光源射出的紫外光量的方法,平衡液晶面板在室外使用时两侧的紫外光,从而达到改善残像的效果。由于UV灯照射会产生离子阱中心,随着UV灯光照射方向的不同会出现在液晶显示面板的不同面。离子阱的产生会使离子在运动过程中有一定的方向性,这种固定方向的运动会导致残像发生;而当液晶面板两边受到相同紫外光照射时,产生的离子阱的作用可以相互抵消,因此对改善残像缺陷有积极作用。 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910077685.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top