[发明专利]利用低压氧化法在铜表面制备超疏水薄膜的方法无效
| 申请号： | 200910077832.2 | 申请日： | 2009-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN101476121A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 王波;裴明德;孙宏达;张雪红;宋雪梅;严辉;朱满康;汪浩;王如志;侯育冬;张铭 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C23C22/63 | 分类号： | C23C22/63;C23C22/82 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 魏聿珠 |
| 地址： | 100124*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 利用 低压 氧化 表面 制备 疏水 薄膜 方法 | ||
【权利要求书】：
1、利用低压氧化法在铜表面制备超疏水薄膜的方法，其特征在于包括以下步骤：
(1)配制(1～3摩尔/升)KOH和(0.05～0.25摩尔/升)K2S2O8的水溶液，将两种溶液按照化学反应方程式：的配比混合后，加热至60℃保温，将清洁的铜片放入配好的溶液中，使其表面反应生成氢氧化铜薄膜，反应10～30min后，拿出来冷却，然后用去粒子水冲洗干净，自然晾干；
(2)再将步骤(1)处理后的铜片放入石英舟中，放入真空室，将真空室抽至0.5Pa～20Pa的低气压范围，将铜片加热到120℃，保温1.5h～5h，然后再冷却到室温；这个过程中，发生的化学反应式是：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
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