[发明专利]强腐蚀性介质相界面的测量方法有效

专利信息
申请号: 200910078574.X 申请日: 2009-02-26
公开(公告)号: CN101493353A 公开(公告)日: 2009-07-29
发明(设计)人: 谭梅芳;曾本忠;许鸿禧;张金刚;余道腾;柏荣 申请(专利权)人: 中昊晨光化工研究院
主分类号: G01F23/14 分类号: G01F23/14
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人: 王朋飞
地址: 643201*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 腐蚀性 介质 界面 测量方法
【权利要求书】:

1.一种测量相界面的方法,是将引压液以相同流量从各引压口压入待测相,并测定引压口的压力,根据引压口的压力差ΔP、引压口的相对高度H以及待测相中上层相的密度ρ1和下层相密度ρ2,计算出相界面的高度h:

h=(ΔP-ρ1×g×H)/(ρ2-ρ1)

其中,所述将引压液以相同流量从引压口压入待测相,是将引压液由压力泵加压,由流量计控制流量,进入待测相来实现。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述引压液是待测相或待测相介质中的一种或多种,或是与待测相易分离的液体。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述引压口位于待测相界面的两侧,并与待测相界面的各相连通。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述引压口的压力由压力表测定。

5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,是利用差压变送器测定各引压口的压力差,并将压力差转化为数字信号,由数据线传送到数据处理设备,并根据数据处理设备内预先设定的引压口距离H,相界面上层相密度ρ1,下层相密度ρ2,由数据处理设备根据权利要求1所述的公式计算出相界面高度h。

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