[发明专利]一种三磷酸腺苷插层水滑石薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种三磷酸腺苷插层水滑石薄膜，其特征在于：该薄膜为层板垂直于 阳极氧化铝基底排列的三磷酸腺苷插层水滑石薄膜材料，该薄膜为超分子结 构，晶体结构为水滑石材料的晶体结构，其化学式为：

[(M²⁺)_1-x(Al³⁺)_x(OH)₂]^x+(ATP^n-)_x/n·mH₂O，其中0.2≤x≤0.33，n＝0.5-14， m＝3-6为层间结晶水分子数；

所述的M²⁺为Mg²⁺、Co²⁺、Ni²⁺、Ca²⁺、Cu²⁺、Fe²⁺或Zn²⁺。

2.如权利要求1所述的一种三磷酸腺苷插层水滑石薄膜的制备方法，其 特征在于，制备步骤为：

a.将铝片分别在无水乙醇和去离子水中超声清洗2～10min，然后放入 0.1-0.4M NaOH溶液中处理1～3min，再用去离子水冲洗干净，将清洗后的 铝片作为阳极，铅片作为阴极，以1-2M H₂SO₄溶液作电解液，恒压氧化， 工作电压15～25V，氧化电流为1.5～3A，电解时间为0.5～2h，电解温度为 室温，使金属铝的表面形成阳极氧化铝层，样品用大量去离子水清洗干净， 25～90℃干燥后备用；

b.分别称取二价金属盐和NH₄NO₃溶解于去离子水中配成反应合成液， 二价金属离子浓度为0.1-0.6M，再用质量分数1％-4％的氨水调节反应合成 液的pH在5.9～8.5之间，将步骤a制备的阳极氧化铝/铝基片垂直悬吊在上 述反应合成液中，在40～130℃温度下反应12～96h，反应结束后用去离子水 冲洗3～5遍，于室温下干燥，得到水滑石薄膜；

c.将三磷酸腺苷溶解在水中，浓度1-2g/L，再用质量分数1％-4％的氨 水调节pH值在5.9～8.5之间，然后放入步骤b制备的长有水滑石薄膜的铝 片，于40～130℃温度下反应12～96h，反应结束后将样品用去离子水冲洗3～5 遍，于室温下干燥，得到三磷酸腺苷插层水滑石的薄膜。