[发明专利]两端结构中长波同时响应量子阱红外探测器及其制作方法无效

专利信息
申请号: 200910081985.4 申请日: 2009-04-15
公开(公告)号: CN101866933A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: 霍永恒;马文全;种明;张艳华;陈良惠 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H01L21/8252
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 两端 结构 长波 同时 响应 量子 红外探测器 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种两端结构中长波同时响应量子阱红外探测器,包括:

一半绝缘半导体GaAs衬底,作为整个器件的承载体;

一第一半导体GaAs接触层,制作在半绝缘半导体GaAs衬底上,在第一半导体GaAs接触层中掺杂n型杂质,起到缓冲衬底和其它层之间应力的作用,又充当了器件的下接触层,用来连接外部偏置电压,传导电流;

一第一多量子阱红外探测器,制作在第一半导体GaAs接触层上,其量子阱内掺杂n型杂质,用于探测位于中波大气窗口的红外辐射,该第一多量子阱红外探测器的面积小于第一半导体GaAs接触层的面积,而位于第一半导体GaAs接触层的一侧,在第一半导体GaAs接触层的另一侧形成一台面;

一第二半导体GaAs接触层,制作在第一多量子阱红外探测器上,其中掺杂n型杂质,起到将上下两个探测器在电学上串联起来的作用;

一第二多量子阱红外探测器,制作在第二半导体GaAs接触层上,其量子阱内掺杂n型杂质,用于探测位于长波大气窗口的红外辐射;

一第三半导体GaAs接触层,制作在第二多量子阱红外探测器上,其中掺杂n型杂质,起到保护整个器件的作用,并作为上接触层,用来连接外部偏置电压,传导电流;

一上接触电极和一下接触电极分别制作在第三半导体GaAs接触层上面和第一半导体GaAs接触层形成的台面上。

2.根据权利要求1所述的两端结构中长波同时响应量子阱红外探测器,其中第一、第二和第三半导体GaAs接触层的层厚为300-700纳米。

3.根据权利要求1所述的两端结构中长波同时响应量子阱红外探测器,其中第一、第二多量子阱红外探测器,其各自内部由多个相同的重复单元构成。

4.根据权利要求3所述的两端结构中长波同时响应量子阱红外探测器,其中该第一多量子阱红外探测器的每一个重复单元包括:

一第一AlXGa1-XAs势垒层,用来限制电子;

一第一GaAs层,制作在第一AlXGa1-XAs势垒层上,改善量子阱的界面质量;

一InXGa1-XAs量子阱层,制作在第一GaAs层上,其中掺杂n型杂质,提供载流子;

一第二GaAs层,制作在InXGa1-XAs量子阱层上,改善量子阱的界面质量;

一第二AlXGa1-XAs势垒层,制作在第二GaAs层上,用来限制电子。

5.根据权利要求3所述的两端结构中长波同时响应量子阱红外探测器,其中该第二多量子阱红外探测器的每一个重复单元包括:

一第一AlXGa1-XAs势垒层,用来限制电子;

一GaAs量子阱层,制作在第一AlXGa1-XAs势垒层上,其中间部位掺杂n型杂质,提供载流子;

一第二AlXGa1-XAs势垒层,制作在GaAs量子阱层上,用来限制电子。

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