[发明专利]一种环形永磁体屏蔽装置无效

专利信息
申请号: 200910082998.3 申请日: 2009-04-28
公开(公告)号: CN101877523A 公开(公告)日: 2010-11-03
发明(设计)人: 应德贵 申请(专利权)人: 应德贵
主分类号: H02K21/02 分类号: H02K21/02
代理公司: 北京国林贸知识产权代理有限公司 11001 代理人: 贾兴昌
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 环形 永磁体 屏蔽 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种环形永磁体屏蔽装置,特别涉及一种安装有环形永磁体和转动屏蔽体的屏蔽装置,该屏蔽装置通过动力输入轮带动转动屏蔽体作旋转和往复运动,所述的环形永磁体屏蔽装置即可利用旋转磁屏蔽原理产生电能又可利用环形永磁体的磁吸引和排斥产生驱动力。

背景技术

专利号为ZL00252880.0公开了一种高牵入同步能力永磁同步电动机,包括机座及组装其内的定子,由转轴、铁心、永磁体、一鼠笼导条构成的转子,其特征在于径向分布的永磁体嵌入转子铁心的永磁体槽中,永磁体槽位于转子槽下方,两槽之间有隔磁磁桥。这种电机的牵入同步能力强,其功率因数和效率都有所提高结构简单,制作方便,但是该专利的整体结构不完善,电机内部不存在屏蔽套,不能实现屏蔽的效果;因此,需要提供一种新型的环形永磁体屏蔽装置以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种环形永磁体屏蔽装置,该装置中安装有环形永磁体,在环形永磁体外设置有转动屏蔽体,该屏蔽装置通过动力输入轮带动转动屏蔽体作旋转和往复摆动,通过发电线圈将产生的电能输出,通过联动框架将产生的驱动力输出,该装置即可实现电能输出又可实现驱动力输出,提高了磁能转换效率。

本发明的目的是由下述技术方案实现的:一种环形永磁体屏蔽装置,有一个机架,在该机架上设有一个中心轴,在该中心轴上安装有环形永磁体,在所述环形永磁体外设置有至少一个转动屏蔽体;该转动屏蔽体呈扇形,该转动屏蔽体的扇形断面呈[形,该转动屏蔽体通过转动连接件安装在中心轴上。

一种环形永磁体屏蔽装置,有一个机架,在该机架上设有一个中心轴,在该中心轴上安装有环形永磁体,在所述环形永磁体外设置有至少两个摆动屏蔽体;该摆动屏蔽体呈扇形,该摆动屏蔽体的扇形断面呈[形,所述的各摆动屏蔽体分别通过摆动连接件与中心轴安装。

本发明与已有技术相比具有如下优点:

1、本发明采用在所述环形永磁体外设置有至少一个转动屏蔽体的设计,可实现转动屏蔽体绕中心轴旋转运动,本发明的转动屏蔽体与环形永磁体同轴等距安装,具有受力均匀特点;在转动屏蔽体转动时不受环形永磁体的干扰,只需通过动力输入轮输入较小的功率,便可实现转动屏蔽体转动,以达到在不同区域改变磁场强度的目的;

2、本发明采用在所述环形永磁体外设置有至少两个摆动屏蔽体;所述的各摆动屏蔽体分别通过摆动连接件与中心轴安装的设计,只需通过动力输入轮输入较小的功率便可实现摆动屏蔽体绕中心轴作规律的往复摆动,从而实现各摆动屏蔽体间的开启和闭合;本发明利用摆动屏蔽体规律的往复摆动使联动框架与环形永磁体产生上下的相对运动,从而实现较大的磁驱动功率输出。

3、本发明采用导磁套筒的设计,可使导磁套筒与所述转动屏蔽体形成导磁回路,有效增大磁通量,减少磁能损耗,以增大电能的输出功率。

4、本发明采用励磁线圈的设计,可在该励磁线圈上间歇输入电流,使该励磁线圈产生一个与环形永磁体磁极方向相同的磁场,在电流的作用下,使导入转动屏蔽体内的磁力线瞬间饱和并穿透转动屏蔽体,此时发电线圈与屏蔽体之间形成一个同磁极的排斥磁场,可减小一部分发电线圈对转动屏蔽体产生的吸引力,有助于转动屏蔽体的旋转运动。

5、本发明的转动屏蔽体采用一片硅钢板材卷绕成坯料,然后切裁成形工艺生产,该转动屏蔽体材质均匀,屏蔽效果好。

附图说明

以下结合附图及实施例对本发明作进一步说明。

图1是本发明实施例一的立体图

图2是本发明实施例一的主视图

图3是本发明实施例一的结构示意图(纵剖视图)

图4是本发明实施例一中转动屏蔽体的示意图

图5是本发明实施例二的结构示意图

图6是本发明实施例二的磁场分布示意图

图7是本发明实施例三的结构示意图

图8是本发明实施例三的磁场分布示意图

图9是本发明实施例四的立体图

图10是本发明实施例四的主视图

图11是本发明实施例四的结构示意图(纵剖视图)

图12是本发明实施例四中摆动屏蔽体的示意图

图13是本发明实施例五的立体图

图14是本发明实施例五的主视图

图15是本发明实施例六的主视图

图16是本发明中屏蔽体的立体图

具体实施方式

实施例一:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应德贵,未经应德贵许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910082998.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top