[发明专利]一种K波段介质膜片加载圆波导馈电滤波器有效
申请号: | 200910086090.X | 申请日: | 2009-06-05 |
公开(公告)号: | CN101572335A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
发明(设计)人: | 万亮;李志平;许鼎;何国瑜;苗俊刚 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | H01P1/20 | 分类号: | H01P1/20;H01P1/212 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人: | 成金玉;卢 纪 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 波段 介质 膜片 加载 波导 馈电 滤波器 | ||
1.一种K波段介质膜片加载圆波导馈电滤波器,其特征在于包括:圆柱形金属空腔(5)、 位于圆柱形金属空腔(5)内的微波基板(2)、由微波基板蚀刻加工而成的介质膜片(3)和 环绕介质膜片(3)的金属化过孔(4);所述的金属化过孔(4)形成等效圆波导壁;所述的 圆柱形金属空腔(5)中的电磁波传输模式为单一TE11模;所述的微波基板(2)和介质膜 片(3)数量至少为两个;
所述的圆柱形金属空腔(5)的内半径的范围为3.3~6.6mm;
所述的微波基板(2)的厚度为10mils~20mils;
所述的每两个微波基板(2a、2b)或每两个介质膜片之间的间距为5.7~8.3mm;
所述微波基板的介质耐500℃以上高温,介电常数在2~10之间;
所述的介质膜片(3)的半径大于圆柱形金属空腔(5)的内半径与介电常数开方的比值, 小于圆柱形金属空腔(5)的内半径;
所述的金属化过孔(4)等角度间隔分布于圆形介质膜片的周围,角度间隔在10~30度 之间;
所述的金属化过孔(4)至介质膜片(3)边沿的距离不大于0.5mm。
2.根据权利要求1所述的K波段介质膜片加载圆波导馈电滤波器,其特征在于:所述 的微波基板(2)的结构为平面叠层结构,中间层为介质,附着于中间介质层上下两边的为 金属层。
3.根据权利要求1所述的K波段介质膜片加载圆波导馈电滤波器,其特征在于:所述 的介质膜片(3)是利用图形电镀蚀刻法,在介质膜片(3)的区域将微波基板(2)腐蚀掉 介质层上下的金属层加工而成。
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