[发明专利]反应腔室及化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种反应腔室，所述反应腔室的下方设有抽气管路，其特征在于，所述抽气管路靠近反应腔室的一段为向下的折弯型，所述抽气管路的折弯型部位背离所述反应腔室排气口的一侧安装有滤网。

2.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述折弯型为U型或V型。

3.根据权利要求1或2所述的反应腔室，其特征在于，所述抽气管路的折弯型部位的底部设计有储尘槽，所述除尘槽的底部设有除尘法兰。

4.根据权利要求1或2所述的反应腔室，其特征在于，所述抽气管路的内径为10mm～1000mm。

5.根据权利要求4所述的反应腔室，其特征在于，所述抽气管路的内径为40mm～200mm。

6.根据权利要求3所述的反应腔室，其特征在于，所述储尘槽的内径为10mm～1000mm。

7.根据权利要求6所述的反应腔室备，其特征在于，所述储尘槽的内径为40mm～200mm。

8.根据权利要求3所述的反应腔室，其特征在于，所述储尘槽的高度为0～1000mm。

9.根据权利要求8所述的反应腔室，其特征在于，所述储尘槽的高度为10mm～200mm。

10.一种化学气相沉积设备，其特征在于，该化学气相沉积设备包括权利要求1至9任一项所述的反应腔室。