[发明专利]一种镀膜工艺控制方法及控制系统

权利要求书

1.一种镀膜工艺控制方法，其特征在于，包括：

针对多批次的镀膜工艺，通过定义对象来编写每批镀膜工艺需要的配置参数及相应参数值并保存；其中，所述每批镀膜工艺需要的配置参数及相应参数值包括单步或多步的配置参数及相应参数值；

在每批镀膜工艺流程中，自动获取当前批次的配置参数及相应参数值；

根据所获取的配置参数及相应参数值，执行镀膜工艺流程。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过定义对象来编写每批镀膜工艺需要的配置参数及相应参数值并保存，包括：

针对每批镀膜工艺定义一个对象，在每批镀膜工艺定义的对象中：

针对单步镀膜工艺定义一个单步对象，单步镀膜工艺需要的配置参数定义为单步对象的属性，相应参数值定义为属性值；

针对多步镀膜工艺定义一个对象数组，其中每步镀膜工艺为对象数组中的一个对象，每步镀膜工艺需要的配置参数定义为相应对象的属性，相应参数值定义为属性值；

将多批镀膜工艺定义的对象通过哈希表保存。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，通过以下方式保存配置参数及相应参数值：

将多批次的镀膜工艺需要的配置参数及相应参数值序列化为一个文件后进行保存；

通过以下方式自动获取当前批次的配置参数及相应参数值：

将所保存的文件进行反序列化，然后根据每批镀膜工艺的标识获取当前批次的配置参数及相应参数值。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述镀膜工艺为对硅片的镀膜工艺。

5.一种镀膜工艺控制系统，其特征在于，包括：

配置单元，用于针对多批次的镀膜工艺，通过定义对象来编写每批镀膜工艺需要的配置参数及相应参数值，并保存；其中，所述每批镀膜工艺需要的配置参数及相应参数值包括单步或多步的配置参数及相应参数值；

参数获取单元，用于在每批镀膜工艺中，自动获取当前批次的配置参数及相应参数值；

工艺执行单元，用于根据所获取的配置参数及相应参数值，执行镀膜工艺流程。

6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述配置单元包括：

对象定义子单元，用于针对每批镀膜工艺定义一个对象，在每批镀膜工艺定义的对象中：针对单步镀膜工艺定义一个单步对象；针对多步镀膜工艺定义一个对象数组，其中每步镀膜工艺为对象数组中的一个对象；

属性定义子单元，用于针对单步镀膜工艺需要的配置参数定义为单步对象的属性，相应参数值定义为属性值；多步镀膜工艺中，每步镀膜工艺需要的配置参数定义为相应对象的属性，相应参数值定义为属性值；

存储子单元，用于将多批镀膜工艺定义的对象通过哈希表保存。

7.根据权利要求5或6所述的系统，其特征在于，还包括：

加密单元，用于将多批次的镀膜工艺需要的配置参数及相应参数值序列化为一个文件，然后所述配置单元将所述文件进行保存；

解密单元，用于将所保存的文件进行反序列化，然后所述参数获取单元根据每批镀膜工艺的标识获取当前批次的配置参数及相应参数值。

8.根据权利要求5所述的系统，其特征在于：所述工艺执行单元执行对硅片的镀膜工艺。