[发明专利]一种类金刚石镀膜玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜玻璃技术领域，尤其涉及一种类金刚石镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

目前，镀膜玻璃由于其优良的性能已经在各个领域得到了广泛的应用，然而，其在运输和储藏的过程中，基片膜层容易划伤、磨损，并且，其银层容易氧化，另外，镀膜玻璃在进行各种冷加工和热处理，如切片、磨边，夹层等处理后，物理化学性能容易发生改变，针对此问题，目前国内大部分玻璃深加工企业使用PE有机贴膜保护基片膜层，它可以起到一定的保护效果。然而，使用基片时，需人工揭膜，该保护膜不能重复利用且不易降解，批量使用会造成大量的固体废物，而这对环境造成了严重的负面影响。

因此，找到一种合适的环保材料替代PE有机保护膜对于本领域而言已经势在必行。

发明内容

本发明的目的在于提供一种类金刚石镀膜玻璃及其制备方法，以克服现有PE有机保护膜需人工揭膜，不易降解而造成大量的固体废物的缺陷。

为实现上述目的，本发明提出一种类金刚石镀膜玻璃，包括：玻璃基片；功能膜层，镀制于玻璃基片表面；以及类金刚石膜层，镀制于功能膜层表面。

其中，该功能膜层为可钢化低辐射膜层、不可钢化的低辐射膜层或阳光控制膜层。

其中，较佳地，该功能薄膜最外层的物质为Si₃N₄、Ti₃N₄、TiO₂、SnO₂、SiO₂、ZnO或SnZnO₃。

其中，该功能膜层最外层的厚度较佳为10～120nm。

其中，该类金刚石膜层的材料较佳为C或CN₄。

其中，该类金刚石膜层的厚度较佳为5～40nm，更佳为10～30nm，最佳为15～20nm。

而且，为实现上述目的，本发明提出一种类金刚石镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：

步骤1：提供一玻璃基片；

步骤2：在玻璃基片表面沉积功能膜层；

步骤3：在该功能膜层表面沉积一类金刚石膜层。

其中，该步骤2及步骤3中的沉积方式为磁控溅射沉积。

较佳地，该磁控溅射沉积在真空级数为10^-610^-3mbar级的工作气氛下，在氩气气体气氛中，在氩气流量为1200sccm的条件下以及在8KW的溅射功率下进行。

其中，该功能膜层为可钢化低辐射膜层、不可钢化的低辐射膜层或阳光控制膜层。

较佳地，该功能薄膜最外层的物质为Si₃N₄、Ti₃N₄、TiO₂、SnO₂、SiO₂、ZnO或SnZnO₃。

其中，该功能膜层最外层的沉积厚度为10～120nm。

其中，该类金刚石膜层的材料较佳为C或CN₄。

其中，该类金刚石膜层的沉积的厚度较佳为5～40nm。

其中，于步骤2中，沉积该功能膜层或者该功能薄膜的最外层所使用的靶材较佳为Si，SiAl，Ti，Zn，Sn，ZnAl，ZnSn，该功能膜层的内层可以包括TiO₂层、NiCr层、Ag层、Cu层、SiO₂层、ZnO层、SnZnO₃层等常规的膜层材料。

其中，于步骤3中，沉积该类金刚石膜层的靶材较佳为石墨。

本发明所提供的类金刚石镀膜玻璃及其制备方法，由于类金刚石薄膜具有高硬度且抗氧化性强，该膜层可避免PE有机贴膜的一系列问题，该薄膜对基片膜层起到很好的保护效果，在运输和储藏的过程中，可以防止基片膜层划伤、延缓银层氧化速度。并且，本发明采用磁控溅射方式制备，镀制膜层具有硬度高、膜面外观均匀等优点，并且与功能膜层之间附着力好，同时，镀制该膜层的基片仍可进行各种冷加工和热处理，如切片、磨边，夹层、合中空玻璃等。另外，该薄膜可通过钢化、半钢化或弯钢化等热处理方式去除，去除后基片恢复原有膜层结构及性能。

附图说明

图1为本发明类金刚石镀膜玻璃的简单结构示意图；

图2为本发明实施例1的类金刚石镀膜玻璃的结构示意图；

图3为本发明实施例2的类金刚石镀膜玻璃的结构示意图；

图4为本发明实施例3的类金刚石镀膜玻璃的结构示意图；